| 主权项 |
1.一种用来测量不同厚度基板(8)上图型(9)的测量 仪器(100),其特征为包括有一个X-Y滑车(4),其一个开 口(24)是由周缘(26),照明光学系统(15),以及多个光 学补偿元件(20)所形成,其中光学补偿元件(20)所用 之多个储存室(22)被形成在X-Y滑车(4)之开口(24)的 周缘(26)上;并且每一个情况中所须之光学补偿元 件(20)可由照明光学系统(15)从相关之储存室(22)中 被移除。2.如申请专利范围第1项之测量仪器,其中 基板(8)上之图型(9)的测量是由透过光之中完成。3 .如申请专利范围第1项之测量仪器,其中X-Y滑车(4) 是同时可用在测量基板(8)所用之测量台。4.如申 请专利范围第1项之测量仪器,其中照明光学系统( 15)包括一个聚光镜,它由垂直于X-Y滑车(4)之移动方 向之移动机构而可被调整;并且X-Y滑车(4)将储存室 (22)及其光学补偿元件(20)移动进入一个移除位置 。5.如申请专利范围第1项之测量仪器,其中储存室 (22)被形成为使光学补偿元件(20)符合于储存室(22) 中。6.如申请专利范围第5项之测量仪器,其中光学 补偿元件(20)被编码。7.如申请专利范围第1项之测 量仪器,其中补偿元件之储存室(22)成线性地被沿 着开口(24)之周缘(26)而配置。8.如申请专利范围第 1项之测量仪器,其中每一个被移除之光学补偿元 件(20)抵住在聚光镜(15)上。9.如申请专利范围第1 项之测量仪器,其中补偿元件(20)被形成为,由于不 同基板厚度而补偿其光学路径长度。10.一种用来 测量不同厚度基板(8)上图型(9)的方法,其特征为该 方法包括有下列步骤: 确定使用在测量之基板型式; 移动X-Y滑车(4),使照明光学系统(15)位于所选定之 补偿元件(20)下方; 升高照明光学系统(15),并且藉以拾取补偿元件(20); 移动X-Y滑车(4)进入基板(8)之测量区域,并且使照明 光学系统(15)及补偿元件(20)一起定位在测量位置 上。11.如申请专利范围第10项之方法,其中照明光 学系统(15)包括一个聚光镜,它由垂直于X-Y滑车(4) 之移动方向之移动机构而可被调整。12.如申请专 利范围第10项之方法,其中一旦被用来测量用之基 板先被确认之后,补偿光学路径长度所需之补偿元 件(20)被选定;并且被选定之补偿元件(20)在储存室( 22)中的位置被确定。13.如申请专利范围第10项之 方法,其中使用之基板的确定是根据感测器之测量 结果而完成;并且X-Y滑车(4)之驱动系统因而可被控 制成,使符合到基板(8)之补偿元件(20)被移除。14. 如申请专利范围第10项之方法,其中基板(8)之测量 是在透过的光之中进行。图式简单说明: 第一图显示测量仪器之示意侧图; 第二图显示X-Y滑车及其中所含之补偿元件之立体 图; 第三图显示通过是补偿元件及聚光镜之横剖面图, 为了显示补偿元件在聚光镜上之机械定位; 第四图显示光学补偿元件之储存室构造之实施例; 第五图a-第五图c显示从一个储存室移除补偿元件 各个阶段之图示; 第六图显示本发明方法之流程图。 |
