| 主权项 |
1.一种紫外(UV)光的焦点位置控制机构,包含: 支撑机构,用来支撑一照明物体; UV光照明机构,用来将由一物镜会聚的UV光照明在 由该支撑机构承载的该照明物体上; 距离侦测机构,相对于该物镜安装在一固定位置处 ,用来侦测至该照明物体的距离;及 位置控制机构,用来偏移该支撑机构及/或该物镜, 以控制该照明物体与该物镜之间的相对位置; 该位置控制机构根据由该距离侦测机构所测得的 距离来将该照明物体与该物镜之间的距离控制于 一预设目标距离。2.如申请专利范围第1项所述的 紫外(UV)光的焦点位置控制机构,其中 该位置控制机构将该照明物体与该物镜相对于彼 此偏移,以将该物镜设定在与该照明物体的照明目 标点一致的位置处;且 该位置控制机构使该距离侦测机构侦测至该照明 物体的距离,以根据由该距离侦测机构所测得的距 离来将该照明物体与该物镜之间的距离控制于一 预设目标距离。3.如申请专利范围第1项所述的紫 外(UV)光的焦点位置控制机构,其中 该位置控制机构将该照明物体与该物镜相对于彼 此偏移,以将该距离侦测机构设定在与该照明物体 的照明目标点一致的位置处; 该位置控制机构使该距离侦测机构侦测至该照明 物体的距离,以造成该照明物体与该物镜之间的相 对移动,以将该物镜设定在与该照明物体的照明目 标点一致的位置处;且 该位置控制机构根据由该距离侦测机构所测得的 距离来将该照明物体与该物镜之间的距离控制于 预设目标距离。4.如申请专利范围第1项所述的紫 外(UV)光的焦点位置控制机构,其中 该位置控制机构根据在该照明物体平行于该物镜 时与一移动座标上的各别位置一致地设定的第一 校正植来校正该预设目标距离。5.如申请专利范 围第1项所述的紫外(UV)光的焦点位置控制机构,其 中 该位置控制机构根据与该照明物体上的每一照明 位置一致地设定的第二校正値来校正该预设目标 距离。6.如申请专利范围第1项所述的紫外(UV)光的 焦点位置控制机构,其中 该位置控制机构根据响应由该距离侦测机构所测 得的距离的漂移伴随暂时改变而设定的第三校正 値来校正由该距离侦测机构所测得的距离。7.如 申请专利范围第1项所述的紫外(UV)光的焦点位置 控制机构,其中 该位置控制机构根据在该照明物体平行于该物镜 时与一移动座标上的各别位置一致地设定的第一 校正値以及与该照明物体上的每一照明位置一致 地设定的第二校正値来校正该预设目标距离;且 该位置控制机构也根据响应由该距离侦测机构所 测得的距离的漂移伴随暂时改变而设定的第三校 正値来校正由该距离侦测机构所测得的距离。8. 如申请专利范围第1项所述的紫外(UV)光的焦点位 置控制机构,其中 该距离侦测机构为电容型感测器。9.如申请专利 范围第1项所述的紫外(UV)光的焦点位置控制机构, 其中 该距离侦测机构与该物镜成整体地形成。10.一种 紫外(UV)光的焦点位置控制方法,其中使由一物镜 会聚的UV光的焦点位置与照明物体的一选择位置 一致,该方法包含: 藉着相对于该物镜具有固定相对位置的一距离侦 测装置来侦测至该照明物体的距离;及 根据由该距离侦测装置所测得的距离来将该照明 物体与该物镜之间的距离控制于一预设目标距离 。11.如申请专利范围第10项所述的紫外(UV)光的焦 点位置控制方法,其中 该照明物体及该物镜被平移,直到该物镜位在与该 照明物体的一照明目标点一致的位置处; 至该照明物体的距离由该距离侦测装置来侦测;且 该照明物体与该物镜之间的距离根据由该距离侦 测装置所测得的距离被控制于预设目标距离。12. 如申请专利范围第10项所述的紫外(UV)光的焦点位 置控制方法,其中 该照明物体及该物镜被平移,直到该距离侦测装置 位在与该照明物体的一照明目标点一致的位置处; 至该照明物体的距离由该距离侦测装置来侦测; 该照明物体及该物镜被平移,直到该物镜位在与该 照明物体的照明目标点一致的位置处;且 该照明物体与该物镜之间的距离根据由该距离侦 测装置所测得的距离被控制于预设目标距离。13. 如申请专利范围第10项所述的紫外(UV)光的焦点位 置控制方法,其中 该预设目标距离根据在该照明物体平行于该物镜 时与移动座标上的每一位置相关联地设定的第一 校正値被校正。14.如申请专利范围第10项所述的 紫外(UV)光的焦点位置控制方法,其中 该预设目标距离根据与该照明物体上的每一照明 位置一致地设定第二校正値被校正。15.如申请专 利范围第10项所述的紫外(UV)光的焦点位置控制方 法,其中 由该距离侦测装置所测得的距离根据与由该距离 侦测装置所测得的距离的漂移伴随暂时改变一致 地设定的第三校正値被校正。16.如申请专利范围 第10项所述的紫外(UV)光的焦点位置控制方法,其中 该预设目标距离根据在该照明物体平行于该物镜 时与移动座标上的每一位置一致地设定的第一校 正値及与该照明物体上的每一照明位置一致地设 定第二校正値被校正;且 由该距离侦测装置所测得的距离根据与由该距离 侦测装置所测得的距离的漂移伴随暂时改变一致 地设定的第三校正値被校正。17.如申请专利范围 第10项所述的紫外(UV)光的焦点位置控制方法,其中 至该照明物体的距离是由采用电容型感测器的距 离侦测装置来侦测。18.如申请专利范围第10项所 述的紫外(UV)光的焦点位置控制方法,其中 至该照明物体的距离是由与该物镜成整体地形成 的距离侦测装置来侦测。19.一种检验设备,包含: 支撑机构,用来支撑一装置; 紫外(UV)光照明机构,用来将由一物镜会聚的UV光照 明于由该支撑机构承载的该装置上; 距离侦测机构,相对于该物镜安装在一固定位置处 ,用来侦测至该装置的距离; 位置控制机构,用来偏移该支撑机构及/或该物镜, 以控制该装置与该物镜之间的相对位置; 紫外(UV)光照相机构,用来侦测照明在该装置上的 反射UV光,以将该装置的影像照相;及 检验机构,用来处理由该UV光照相机构所照的影像, 以检验该装置; 该位置控制机构根据由该距离侦测机构所测得的 距离来将该装置与该物镜之间的距离控制于一预 设目标距离。20.如申请专利范围第19项所述的检 验设备,其中 该位置控制机构将该装置与该物镜相对于彼此偏 移,以将该物镜设定在与该装置的照明目标点一致 的位置处;且 该位置控制机构使该距离侦测机构侦测至该装置 的距离,以根据由该距离侦测机构所测得的距离来 将该装置与该物镜之间的距离控制于一预设目标 距离。21.如申请专利范围第19项所述的检验设备, 其中 该位置控制机构将该装置与该物镜相对于彼此偏 移,以将该距离侦测机构设定在与该装置的照明目 标点一致的位置处; 该位置控制机构使该距离侦测机构侦测至该装置 的距离,以造成该装置与该物镜之间的相对移动, 以将该物镜设定在与该装置的照明目标点一致的 位置处;且 该位置控制机构根据由该距离侦测机构所测得的 距离来将该装置与该物镜之间的距离控制于预设 目标距离。22.如申请专利范围第19项所述的检验 设备,其中 该位置控制机构根据在该装置平行于该物镜时与 一移动座标上的各别位置一致地设定的第一校正 値来校正该预设目标距离。23.如申请专利范围第 19项所述的检验设备,其中 该位置控制机构根据与该装置上的每一照明位置 一致地设定的第二校正値来校正该预设目标距离 。24.如申请专利范围第19项所述的检验设备,其中 该位置控制机构根据响应由该距离侦测机构所测 得的距离的漂移伴随暂时改变而设定的第三校正 値来校正由该距离侦测机构所测得的距离。25.如 申请专利范围第19项所述的检验设备,其中 该位置控制机构根据在该装置平行于该物镜时与 一移动座标上的各别位置一致地设定的第一校正 値以及与该装置上的每一照明位置一致地设定的 第二校正値来校正该预设目标距离;且 该位置控制机构也根据响应由该距离侦测机构所 测得的距离的漂移伴随暂时改变而设定的第三校 正値来校正由该距离侦测机构所测得的距离。26. 如申请专利范围第19项所述的检验设备,其中 该距离侦测机构为电容型感测器。27.如申请专利 范围第19项所述的检验设备,其中 该距离侦测机构与该物镜成整体地形成。28.一种 检验方法,其中由一物镜会聚的紫外(UV)光照明在 一装置上以侦测反射光来检验该装置,该方法包含 : 藉着相对于该物镜安装在固定位置处的一距离侦 测装置来侦测至该装置的距离; 根据由该距离侦测装置所测得的距离来将该装置 与该物镜之间的距离控制于一预设目标距离; 照明由该物镜会聚的UV光; 侦测照明在该装置上的UV光的反射光,以对该装置 的影像照相;及 处理所照到的该装置的影像以检验该装置。29.如 申请专利范围第28项所述的检验方法,其中 该装置及该物镜被平移,以将该物镜偏移至与该装 置的一照明目标点一致的位置处; 至该装置的距离由该距离侦测装置来侦测;且 该装置与该物镜之间的距离根据由该距离侦测装 置所测得的距离被控制于预设目标距离。30.如申 请专利范围第28项所述的检验方法,其中 该装置及该物镜被平移,以将该距离侦测装置偏移 至与该装置的一照明目标点一致的位置处; 至该装置的距离由该距离侦测装置来侦测; 该装置及该物镜被平移,以将该物镜偏移至与该装 置的照明目标点一致的位置处;且 该装置与该物镜之间的距离根据由该距离侦测装 置所测得的距离被控制于预设目标距离。31.如申 请专利范围第28项所述的检验方法,其中 该预设目标距离根据在该装置平行于该物镜时与 一移动座标上的各别位置一致地设定的第一校正 値被校正。32.如申请专利范围第28项所述的检验 方法,其中 该预设目标距离根据与该装置上的每一照明位置 一致地设定第二校正値被校正。33.如申请专利范 围第28项所述的检验方法,其中 由该距离侦测装置所测得的距离根据响应由该距 离侦测装置所测得的距离的漂移伴随暂时改变而 设定的第三校正値被校正。34.如申请专利范围第 28项所述的检验方法,其中 该预设目标距离根据在该装置平行于该物镜时与 一移动座标上的各别位置一致地设定的第一校正 値及与该装置上的每一照明位置一致地设定第二 校正値被校正;且 由该距离侦测装置所测得的距离根据响应由该距 离侦测装置所测得的距离的漂移伴随暂时改变而 设定的第三校正値被校正。35.如申请专利范围第 28项所述的检验方法,其中 至该装置的距离是由采用电容型感测器的距离侦 测装置来侦测。36.如申请专利范围第28项所述的 检验方法,其中 至该装置的距离是由与该物镜成整体地形成的距 离侦测装置来侦测。图式简单说明: 第一图显示根据本发明的检验设备的外观。 第二图为显示第一图所示的检验设备的清洁单元 的内部结构并且是于由第一图中的箭头A1所示的 方向看入清洁单元的内部的前视图。 第三图为显示第一图所示的检验设备的清洁单元 的内部结构并且是于由第一图中的箭头A2所示的 方向看入清洁单元的内部的平面图。 第四图为显示第一图所示的检验设备的结构的方 块图。 第五图显示距离感测器及UV光用的物镜的结构。 第六图显示第一图所示的检验设备的光学单元的 光学系统的结构。 第七图显示第一图所示的检验设备的光学单元的 光学系统的另一结构。 第八图显示第一图所示的检验设备的UV雷射光源 的另一结构。 第九图为显示藉着根据本发明的检验设备来检验 半导体晶圆的典型操作顺序的流程图。 第十图为显示藉着根据本发明的检验设备来检验 半导体晶圆的另一典型操作顺序的流程图。 第十一图为显示藉着根据本发明的检验设备来检 验半导体晶圆的另一典型操作顺序的流程图。 第十二图为显示藉着根据本发明的检验设备来检 验半导体晶圆的另一典型操作顺序的流程图。 第十三图显示从参考影像及缺陷影像的缺陷侦测 技术。 第十四图为显示藉着根据本发明的检验设备来检 验半导体晶圆时UV光用的物镜至测量物体的座标 的移动操作及自动聚焦操作的操作顺序的流程图 。 第十五图显示在检验台的每一移动位置中的UV光 用的物镜和半导体晶圆之间的距离与距离感测器 和半导体晶圆之间的距离之间的关系。 第十六图显示用来储存第一校正値的矩阵表。 第十七图显示上面形成有多个晶粒的半导体晶圆 。 第十八图显示形成于晶粒中的阶梯差异。 第十九图显示在UV光用的物镜上成整体地安装的 距离感测器。 第二十图显示在UV光用的物镜直接移动至照明目 标位置下的藉着距离感测器来自动聚焦的操作。 第二十一图显示将在缺陷影像的座标上的UV光用 的物镜直接移动至参考影像的座标的操作。 |
