| 主权项 |
1.一种化学机械抛光元件,包含: 一带,包含一抛光表面,该带形成于一闭合回路中; 及 一视窗,包含一第一表面且可移式配置于该带内, 以在第一及第二位置之间移动,该第一表面在该第 二位置时比在该第一位置时更接近该抛光表面。2 .一种化学机械抛光器,其系为一种线性化学机械 抛光器,包含: 至少两滚子、含有一抛光表面之一带、及一晶圆 载体,该带安装成延伸于该等滚子之间使得该等滚 子之旋转动作驱动该带,该晶圆载体系邻接该带设 置以将一晶圆压入接触该等滚子中间之该带,其改 良处包含: 一视窗,包含一第一表面且可移式配置于该带内, 以在第一及第二位置之间移动,该第一表面在该第 二位置时比在该第一位置时更接近该抛光表面,该 视窗系定置成在该带受该等滚子驱动时间歇移入 与该晶圆成对准。3.如申请专利范围第1项之化学 机械抛光元件,其中该第一表面系大致与该抛光表 面在该第二位置中齐平。4.如申请专利范围第2项 之化学机械抛光器,其中该第一表面系大致与该抛 光表面在该第二位置中齐平。5.如申请专利范围 第1项之化学机械抛光元件,尚包含一挠性隔板,将 该视窗与该带联结。6.如申请专利范围第2项之化 学机械抛光器,尚包含一绕性隔板,将该视窗与该 带联结。7.如申请专利范围第1项之化学机械抛光 元件,其中该视窗包含一单件式视窗。8.如申请专 利范围第2项之化学机械抛光器,其中该视窗包含 一单件式视窗。9.如申请专利范围第1项之化学机 械抛光元件,其中该视窗包含一平页状视窗。10.如 申请专利范围第2项之化学机械抛光器,其中该视 窗包含一平页状视窗。11.如申请专利范围第1项之 化学机械抛光元件,其中该视窗包含一滑动视窗。 12.如申请专利范围第2项之化学机械抛光器,其中 该视窗包含一滑动视窗。13.如申请专利范围第1项 之化学机械抛光元件,其中该视窗包含一褶箱视窗 。14.如申请专利范围第2项之化学机械抛光器,其 中该视窗包含一褶箱视窗。15.如申请专利范围第1 项之化学机械抛光元件,其中该视窗附接至该带。 16.如申请专利范围第2项之化学机械抛光器,其中 该视窗附接至该带。17.如申请专利范围第1项之化 学机械抛光元件,其中该视窗系与该带成一体。18. 如申请专利范围第2项之化学机械抛光器,其中该 视窗系与该带成一体。19.如申请专利范围第1项之 化学机械抛光元件,其中该视窗系模制于该带中。 20.如申请专利范围第2项之化学机械抛光器,其中 该视窗系模制于该带中。21.如申请专利范围第2项 之化学机械抛光器,尚包含一视窗位移机构,可作 业使得该视窗从该第一位置移往该第二位置。22. 如申请专利范围第2项之化学机械抛光器,尚包含 一流体平台,可作业使得该视窗从该第一位置移往 该第二位置。23.如申请专利范围第2项之化学机械 抛光器,尚包含一视窗位移机构,可作业使得该视 窗从该第二位置移往该第一位置。24.如申请专利 范围第2项之化学机械抛光器,尚包含与该抛光器 相联结之一现场测量装置。25.一种化学机械抛光 元件,包含: 一旋转平台,包含一抛光表面;及 一视窗,包含一第一表面且可移式配置于该平台内 ,以在第一及第二位置之间移动,该第一表面在该 第二位置时比在该第一位置时更接近该抛光表面 。26.一种化学机械抛光器,包含:一包含一抛光表 面之旋转平台、用以一旋转抛光路径移动该平台 之装置、及一晶圆载体,该晶圆载体系设置成邻接 该抛光元件以在抛光作业期间将一晶圆压抵住该 抛光表面;其改良处包含: 一视窗,包含一第一表面且可移式配置于该旋转平 台内,以在第一及第二位置之间移动,该第一表面 在该第二位置时比在该第一位置时更接近该抛光 表面,该视窗系定置成在该抛光作业期间间歇移入 与该晶圆成对准。27.一种化学机械抛光元件,包含 : 一环绕平台,包含一抛光表面;及 一视窗,包含一第一表面且可移式配置于该平台内 ,以在该第一及第二位置之间移动,该第一表面在 该第二位置时比在该第一位置时更接近该抛光表 面。28.一种化学机械抛光器,包含:一包含一抛光 表面之环绕平台、用以沿一环绕抛光路径移动该 平台之装置、及一晶圆载体,该晶圆载体系设置成 邻接该平台元件以在抛光作业期间将一晶圆压抵 住该抛光表面;其改良处包含: 一视窗,包含一第一表面且可移式配置于该平台内 ,而可在第一及第二位置之间移动,该第一表面在 该第二位置时比在该第一位置时更接近该抛光表 面,该视窗系定置成在该抛光作业期间,间歇移入 与该晶圆成对准。29.如申请专利范围第25或27项之 化学机械抛光元件,其中该第一表面大致与该抛光 表面在该第二位置中齐平。30.如申请专利范围第 26或28项之化学机械抛光器,其中该第一表面大致 与该抛光表面在该第二位置中齐平。31.如申请专 利范围第25或27项之化学机械抛光元件,尚包含一 挠性隔板,将该视窗与该平台联结。32.如申请专利 范围第26或28项之化学机械抛光器,尚包含一挠性 隔板,将该视窗与该平台联结。33.如申请专利范围 第25或27项之化学机械抛光元件,其中该视窗包含 一单件式视窗。34.如申请专利范围第26或28项之化 学机械抛光器,其中该视窗包含一单件式视窗。35. 如申请专利范围第25或27项之化学机械抛光元件, 其中该视窗包含一平页状视窗。36.如申请专利范 围第26或28项之化学机械抛光器,其中该视窗包含 一平页状视窗。37.如申请专利范围第25或27项之化 学机械抛光元件,其中该视窗包含一滑动视窗。38. 如申请专利范围第26或28项之化学机械抛光器,其 中该视窗包含一滑动视窗。39.如申请专利范围第 25或27项之化学机械抛光元件,其中该视窗包含一 褶箱视窗。40.如申请专利范围第26或28项之化学机 械抛光器,其中该视窗包含一褶箱视窗。41.如申请 专利范围第25或27项之化学机械抛光元件,其中该 视窗附接至该平台。42.如申请专利范围第26或28项 之化学机械抛光器,其中该视窗附接至该平台。43. 如申请专利范围第25或27项之化学机械抛光元件, 其中该视窗系与该平台成一体。44.如申请专利范 围第26或28项之化学机械抛光器,其中该视窗系与 该平台成一体。45.如申请专利范围第25或27项之化 学机械抛光元件,其中该视窗系模制于该平台中。 46.如申请专利范围第26或28项之化学机械抛光器, 其中该视窗系模制于该平台中。47.如申请专利范 围第26或28项之化学机械抛光器,尚包含一视窗位 移机构,可作业使得该视窗从该第一位置移往该第 二位置。48.如申请专利范围第26或28项之化学机械 抛光器,尚包含一流体平台,可作业使得该视窗从 该第一位置移往该第二位置。49.如申请专利范围 第26或28项之化学机械抛光器,尚包含一视窗位移 机构,可作业使得该视窗从该第二位置移往该第一 位置。50.如申请专利范围第26或28项之化学机械抛 光器,尚包含一现场测量装置,与该抛光器相联结 。51.如申请专利范围第1.25或27项之化学机械抛光 元件,其中该第一表面在该第一位置时系位于一垫 调节器之一垫切割表面下方。52.如申请专利范围 第2.26或28项之化学机械抛光器,其中该第一表面在 该第一位置时系位于一垫调节器之一垫切割表面 下方。53.如申请专利范围第1.25或27项之化学机械 抛光元件,其中该视窗之第一表面包含一斥浆性材 料。54.如申请专利范围第2.26或28项之化学机械抛 光器,其中该视窗之第一表面包含一斥浆性材料。 55.一种用以在用抛光装置抛光晶圆时于现场监测 该晶圆之方法,该抛光装置包含一抛光表面,该方 法包含以下步骤: (a)提供一抛光装置,其包含一抛光表面及一视窗, 该视窗可移式配置于该抛光装置内以移往及移离 该抛光表面;然后 (b)将该视窗移往该抛光表面;然后 (c)对该晶圆进行一现场测量;然后 (d)将该视窗移离该抛光表面。图式简单说明: 第一图显示一较佳实施例之一抛光装置,其中一可 移动视窗位于一第一位置中; 第二图显示一较佳实施例之一抛光装置,其中一可 移动视窗位于一更接近抛光装置其一抛光表面之 位置中; 第三图显示一较佳实施例之一抛光装置,其中包含 一单件式挠性视窗; 第四图显示一较佳实施例之一抛光装置,其中包含 一平页状之挠性视窗; 第五图显示一较佳实施例之一抛光装置,其中包含 一可移动视窗; 第六图显示一较佳实施例之一抛光装置,其中包含 一褶箱视窗; 第七图显示一较佳实施例之一抛光装置,其中一视 窗位移机构配置于一测量感应器上方; 第八图显示一较佳实施例之一抛光装置,其中一磁 铁及一组导体产生作用使一视窗自第一位置移到 第二位置; 第九图显示一较佳实施例之一抛光装置,其中一可 移动视窗拉向一视窗位移机构; 第十图显示一较佳实施例之一抛光装置,其中当一 可移动视窗位置远离一视窗位移机构时,该视窗移 动而更接近一抛光表面; 第十一图显示一较佳实施例之一线性抛光工具; 第十二图显示一较佳实施例之一旋转抛光工具。 |
