具有密封边缘之堆叠抛光垫

摘要

一种堆叠抛光垫(10,30)包括一上抛光层(12)和一下次层(14)具有相互接触之主面(22,24)。该抛光层(12)大致为液体不可穿透而该次层(14)吸收液体。该次层(14)有一外周边缘(18)经密封以避免液体通过该外周边缘(18)吸入该次层(14)内。当该堆叠抛光垫(10,30)安装于一抛光机之工作台上时，该次层(14)没有能够吸收液体之外露表面。

主权项

1.一种用来抛光微电子基体之抛光垫,其包含:一抛 光层,其适于抛光该基体;及一次层,该抛光层堆叠 于其上;该抛光垫之特征在于: 该抛光层大致为去离子水不可穿透,该次层大致为 去离子水较可穿透,且该次层有一外周边缘经密封 以避免经由该外周边缘将去离子水吸入该次层内 。2.如申请专利范围第1项之抛光垫,其中该外周边 缘以加热方式密封。3.如申请专利范围第1项之抛 光垫,其中该外周边缘以一压纹程序密封。4.如申 请专利范围第1项之抛光垫,其中该外周边缘以一 防水涂布程序密封。5.如申请专利范围第4项之抛 光垫,其中该防水涂层包含一矽橡胶。6.如申请专 利范围第1项之抛光垫,其中该次层有一内周边缘 经密封以避免经由该内周边缘将去离子水吸入该 次层内。7.如申请专利范围第6项之抛光垫,其中该 内周边缘为圆形。8.如申请专利范围第6项之抛光 垫,其中该内周边缘以一加热程序密封。9.如申请 专利范围第6项之抛光垫,其中该内周边缘以一压 纹程序密封。10.如申请专利范围第6项之抛光垫, 其中该内周边缘以一防水涂布程序密封。图式简 单说明: 第一图为一依据本发明之堆叠抛光垫的顶视平面 图; 第二图为沿第一图中线2-2取得之抛光垫剖面图; 第三图为依据本发明另一实施例之堆叠抛光垫的 顶视平面图;且 第四图为沿第三图中线4-4取得之抛光垫剖面图。