| 主权项 |
1.一种向温性液晶聚(酯醯胺),其基本上包括单体 重复单元I',II',III',IV',V',VI'及选用VII',其中 其中X'仅可以选自NR',C=O,O,及其混合物; 其中R及R'系相似或相异,且仅可独立选自H,具1至4 个碳原子之烷基,具1-4个碳原子之氟烷基,苯基,及 其混合物; 其中该液晶聚(酯醯胺)以莫耳为基准,基本上包括 20%至70%单体重复单元I',5%至35%单体重复单元II',2% 至20%单体重复单元III',0.5%至10%单体重复单元IV',5% 至35%单体重复单元V',2%至25%单体重复单元VI',0至15% 单体重复单元VII'。2.根据申请专利范围第1项之向 温性液晶聚(酯醯胺),其中该单体重复单元VI'为3. 根据申请专利范围第2项之向温性液晶聚(酯醯胺), 其基本上包括单体重复单元I',II',III',IV',V'及VI'。4 .根据申请专利范围第1项之向温性液晶聚(酯醯胺) ,以莫耳为基准,基本上包括20%至65%单体重复单元I' ,10%至30%单体重复单元II',2%至15%单体重复单元III',1 %至5%单体重复单元IV',10%至30%单体重复单元V',3%至 20%单体重复单元VI',及0至10%单体重复单元VII'。5. 根据申请专利范围第4项之向温性液晶聚(酯醯胺), 其中该单体单元VI'为6.根据申请专利范围第5项之 向温性液晶聚(酯醯胺),以莫耳为基准,基本上包括 40%至65%单体重复单元I',10%至20%单体重复单元II',2% 至15%单体重复单元III',1%至5%单体重复单元IV',10%至 20%单体重复单元V'及3%至15%单体重复单元VI'。7.根 据申请专利范围第5项之向温性液晶聚合物,以莫 耳为基准,基本上包括60%单体重复单元I',12.5%单体 重复单元II',5%单体重复单元III',2.5%单体重复单元 IV',15%单体重复单元V'及5%单体重复单元VI'。8.一种 适用于射模之组合物,其包括根据申请专利范围第 1项之向温性液晶聚(酯醯胺)及达70重量%且仅可以 选自以下之一种或多种添加剂:补强填充剂,补强 纤维,氧化安定剂,热安定剂,光安定剂,润滑剂,释 模剂,染料,色素及塑化剂。9.一种适用于射模之组 合物,其包括根据申请专利范围第1项之向温性液 晶聚(酯醯胺)及达70重量%且仅可以选自以下之一 种或多种添加剂:玻璃纤维,矽酸钙,矽石,黏土,滑 石,云母,聚四氟乙烯,石墨,氧化铝,碳酸钠铝,铁酸 钡,矽灰石,碳纤维,聚合物纤维,矽酸铝纤维,钛纤 维,羊毛纤维,钢铁纤维,钨纤维及矽灰石纤维。10. 一种成形物件,其包括根据申请专利范围第1项之 聚合物。11.一种纤维,其包括根据申请专利范围第 1项之聚合物。12.一种挤出薄张,其包括根据申请 专利范围第1项之聚合物。13.一种制造向温性液晶 聚(酯醯胺)之方法,其包括在条件下结合单体I,II, III,IV,V,VI及选用VII或该单体反应衍生物之步骤,因 而该单体缩合以产生一固有黏度为至少2dl/g之聚 合物,该黏度系在25℃,以在等体积五氟苯酚及六氟 异丙醇混合物中以重量/体积为基准0.1%溶液测量, 其中 其中X仅可以选自NY'R',C(=O)OH,OH及其混合物; 其中Y及Y'仅可以独立选自H,(C=O)CH3及其混合物; 其中R及R'系相似或相异,并仅可独立选自H,具1至4 个碳原子之烷基,具1至4个碳原子之氟烷基,苯基及 其混合物; 其中该单体浓度以莫耳为基准为20%至70% I,5%至35% II,2%至20% III,0.5%至10% IV,5%至35% V,2%至25%单体VI,及0 至15%单体VII。14.根据申请专利范围第13项之方法, 其中该单体系以熔体酸解聚合反应缩合。15.根据 申请专利范围第13项之方法,其中该单体系经缩合 以产生一固有黏度为至少3dl/g之聚合物。16.一种 以单体熔体缩合反应合成液晶聚合物之方法,该单 体基本上包括4-羟苯甲酸,氢,一种或多种仅可以 选自2,6-伸二羧酸,对酸,4,4'-联苯二羧酸等之 芳香族二酸,及一仅可以选自2,6-二烃,4,4'-联苯 酚等之选用芳香族二醇,反应系在乙酸酐存在下, 于足以将该单体酯化为在25℃以在等体积五氟苯 酚及六氟异丙醇混合物中之0.1%溶液(重量/体积)测 量,固有黏度为至少3dl/g之聚合物之高温进行,其改 良处包括以量0.5莫耳%至10莫耳%异酸作为一共单 体。17.根据申请专利范围第16项之方法,其中该芳 香族二酸包括2,6伸二羧酸。18.根据申请专利范 围第17项之项之方法,其中该芳香族二酸亦包括对 酸。19.根据申请专利范围第18项之方法,其中该 单体亦包括4,4'-联苯酚。20.根据申请专利范围第16 项之方法,其中亦包括量1莫耳%至5莫耳%之异酸 。21.根据申请专利范围第16项之方法,其中该单体 亦包括一种或多种仅可以选自以下之胺单体:4-胺 苯酚,4-胺苯甲酸,1,4-伸苯二胺,4-胺苯酚与4-胺苯甲 酸及1,4-苯二胺之N-甲基衍生物,及该胺单体之N-乙 醯衍生物。22.根据申请专利范围第21项之方法,其 中该胺单体为4-胺苯酚或N-乙醯基-4-胺苯酚。23.根 据申请专利范围第22项之方法,其中该芳香族二酸 包括2,6-伸二羧酸。24.根据申请专利范围第23项 之方法,其中该芳香族二酸亦包括对酸。25.根据 申请专利范围第24项之方法,其中该单体亦包括4,4' -联苯酚。26.根据申请专利范围第21项之方法,其中 亦包括量1莫耳%至5莫耳%之异酸。 |
