发明名称 Parasitic current barriers
摘要 In one embodiment a substrate 14 is patterned to have high and low conductive areas 110, 112, respectively. Metal lines 104, 108 in dielectric layer 16 pass transversely over the areas 110, 112. The areas 112 interrupt parasitic inductive current induced in the substrate 14.
申请公布号 US6278186(B1) 申请公布日期 2001.08.21
申请号 US19980139932 申请日期 1998.08.26
申请人 INTERSIL CORPORATION 发明人 LOWTHER REX E.;YOUNG WILLIAM R.
分类号 H01L23/52;H01L21/3205;H01L23/522;(IPC1-7):H01L23/528;H01L23/532 主分类号 H01L23/52
代理机构 代理人
主权项
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