发明名称 印刷性优异之合成纸
摘要 一种具有优异印刷性之合成纸,其系将藉着拉伸一树脂膜所得之薄膜氧化而制得,该树脂膜以一组合物为主要材料,该组合物包含100重量份数树脂成份,包含:成份A:聚丙烯树脂,55-90重量%;成份B:含有芳族环之聚醚酯醯胺,其系自数量平均分子量为200-5,000而各末端含有羧基之聚醯胺及数量平均分子量为300-5,000之双酚的氧化烯加成物所衍生,5-40重量%;成份C:聚醯胺树脂,3-20重量%;及成份D:至少一种经修饰之低分子量聚丙烯,选自数量平均分子量为800-25,000而酸值为5-150之经修饰低分子量聚丙烯、数量平均分子量为800-25,000而羟基值为5-150之经修饰低分子量聚丙烯、及经聚氧烯化合物酯化而具有l,OOO至28,000之数量平均分子量之经修饰低分子量聚丙烯,l-20重量%及10-250重量份数成份E:无机细粒,该合成纸具有优越之永久抗静电性及优越之胶版印刷性。
申请公布号 TW449543 申请公布日期 2001.08.11
申请号 TW086106441 申请日期 1997.05.14
申请人 王子油化合成纸股份有限公司 发明人 山中昌月;小山广;山田安宏
分类号 B29C55/00;B29C59/00;C08L23/10 主分类号 B29C55/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种合成纸,其包含将藉着拉伸树脂膜所得之膜 表面氧化所得之膜,该树脂膜包含一树脂组合物以 作为主要材料,该树脂组合物包含: 100重量份数树脂成份,包括 成份A:聚丙烯树脂 55-90重量% 成份B:含有芳族环之聚醚酯醯胺,其系自以下成份 衍生 成份b1:聚醯胺,数量平均分子量由200至5,000,而各个 末端含有羧基 成份b2:双酚之氧化烯加成物,数量平均分子量由300 至5,000 5-40重量% 成份C:聚醯胺树脂 3-20重量% 及 成份D:至少一种经修饰之低分子量聚丙烯,选自以 下成份d1至d3 1-20重量% 成份d1:经酸修饰之低分子量聚丙烯,数量平均分子 量由800至25,000,而酸値由5至150, 成份d2:经羟基修饰之低分子量聚丙烯,数量平均分 子量由800至25,000,而羟基値由5至150, 成份d3:经酯修饰之低分子量聚丙烯,其系以聚氧烯 化合物将成份d1部分或完全酯化所得,数量平均分 子量系由1,000至28,000, 所有树脂成份之总量为100重量%,及 由10至250重量份数之 成份E:无机细粒, 该拉伸系于低于充作成份A之聚丙烯之熔点的温度 下进行; 上述经拉伸之树脂膜系为藉调配包含充作成份A之 聚丙烯树脂、充作成份B而具有芳族环之聚醚酯醯 胺、充作成份C之聚醯胺树脂、及充作成份D之经 修饰低分子量聚丙烯与充作成份E之无机细粒,将 形成之树脂组合物熔融挤塑成膜,随后以一般单轴 或双轴拉伸机于低于聚丙烯树脂熔点之温度下,将 挤塑物单轴拉伸3至8倍或双轴拉伸10至60倍面积比 而制得。2.根据申请专利范围第1项之合成纸,其中 经拉伸之树脂膜之孔隙含量使用下式(1)计算由10 至60% o =未拉伸膜之密度 =经拉伸膜之密度。3.根据申请专利范围第1项之 合成纸,其中经拉伸之树脂膜之表面的氧化系藉选 自电晕放电处理、火焰-电浆处理、火焰处理、煇 光放电处理、及臭氧处理等处理进行。4.根据申 请专利范围第3项之合成纸,其中该电晕放电处理 系于由20至500瓦/分.米2之量下进行。5.根据申请专 利范围第1项之合成纸,其中充作成份B而具有芳族 环之聚醚酯醯胺具有由0.5至4.0之降低粘度(0.5重量 %间甲酚溶液,25℃)。6.根据申请专利范围第1项之 合成纸,其中充作成份B而具有芳族环之聚醚酯醯 胺系为自以下成份b1及b2衍生之聚合物: 成份b1:聚醯胺,数量平均分子量由500至3,000,而各末 端含有羧基, 成份b2:双酚之氧化烯加成物,数量平均分子量由1, 000至3,000。7.根据申请专利范围第1项之合成纸,其 中充作成份B而具有芳族环之聚醚酯醯胺系自- 己内醯胺、双酚A之氧化乙烯加成物、及己二酸合 成之聚合物。8.根据申请专利范围第1项之合成纸, 其中充作成份B而具有芳族环之聚醚酯醯胺系自12- 胺基十二烷酸、己二酸、及双酚A之氧化乙烯加成 物合成之聚合物。9.根据申请专利范围第1项之合 成纸,其中充作成份C之聚醯胺树脂具有由0.8至5之 降低粘度(97%硫酸,浓度1g/100ml,30℃)。10.根据申请 专利范围第1项之合成纸,其中充作成份C之聚醯胺 树脂系为选自包括耐纶66.耐纶69.耐纶610.耐纶612. 耐纶6.耐纶11.耐纶12.耐纶46.耐纶6/66.耐纶6/10.耐纶6 /12.及耐纶6/66/12之聚合物。11.根据申请专利范围 第1项之合成纸,其中充作成份D之经修饰低分子量 聚丙烯系为至少一种选自以下成份d1至d3之成份: 成份d1:经修饰低分子量聚丙烯,数量平均分子量由 1,000至20,000,而酸値由10至100, 成份d2:经修饰低分子量聚丙烯,数量平均分子量由 800至25,000,而羟基値由10至100, 成份d3:经修饰低分子量聚丙烯,使用聚氧烯化合物 使成份d1部分或完全酯化,而数量平均分子量系由1 ,200至25,000。12.根据申请专利范围第1项之合成纸, 其中作为成份D之经修饰低分子量聚丙烯系为藉数 量平均分子量由700至20,000之低分子量聚丙烯与选 自丙烯酸、甲基丙烯酸、顺丁烯二酸、顺丁烯二 酸酐、反丁烯二酸、亚甲基丁二酸、亚甲基丁二 酸酐、及甲基丁烯二酸之不饱和酸反应所得之聚 合物。13.根据申请专利范围第12项之合成纸,其中 作为成份D之经修饰低分子量聚丙烯系为该聚合物 又与选自单甲醇胺、单异丙醇胺、二乙醇胺、及 二异丙醇胺之脂族胺反应而制得之聚合物。14.根 据申请专利范围第12项之合成纸,其中作为成份D之 经修饰低分子量聚丙烯系为又藉经羟基化聚氧烯 化合物使该聚合物之部分或所有羧酸部分酯化而 制得之聚合物。15.根据申请专利范围第1项之合成 纸,其中作为成份E之无机细粒系为至少一种选自 碳酸钙、烧粘土、二氧化矽、矽藻土、滑石、 氧化钛、氯化锂、氯化钾、氯化镁、氯化钙、溴 化钠、溴化钾、及溴化镁之粒子。16.根据申请专 利范围第1项之合成纸,其中该树脂组合物包含100 重量份数之树脂成份,由以下成份组成 成份A:聚丙烯树脂 60-85重量% 成份B:具有芳族环之聚醚酯醯胺 5-30重量% 成份C:聚醯胺树脂 3-15重量% 及 成份D:经修饰之低分子量聚丙烯 3-15重量% 所有树脂成份之总量为100重量%, 及10至250重量份数之 成份E:无机细粒。17.根据申请专利范围第1项之合 成纸,其具有由8至300微米之厚度。18.一种合成纸, 其包含经双轴拉伸之热塑性树脂膜主要材料,及层 压于各个表面上之表层;该表层系由包含以下组成 之树脂组合物之经单轴拉伸膜所构成: 100重量份数树脂成份,包括 成份A:聚丙烯树脂 55-90重量% 成份B:含有芳族环之聚醚酯醯胺,其系自以下成份 衍生 成份b1:聚醯胺,数量平均分子量由200至5,000,而各个 末端含有羧基 成份b2:双酚之氧化烯加成物,数量平均分子量由300 至5,000 5-40重量% 成份C:聚醯胺树脂 3-20重量% 及 成份D:至少一种经修饰之低分子量聚丙烯,选自以 下成份d1至d3 1-20重量% 成份d1:经酸修饰之低分子量聚丙烯,数量平均分子 量由800至25,000,而酸値由5至150, 成份d2:经羟基修饰之低分子量聚丙烯,数量平均分 子量由800至25,000,而羟基値由5至150, 成份d3:经酯修饰之低分子量聚丙烯,其系以聚氧烯 化合物将成份d1部分或完全酯化所得,数量平均分 子量由1,000至28,000, 所有树脂成份之总量为100重量%, 及 由10至250重量份数之 成份E:无机细粒。19.根据申请专利范围第18项之合 成纸,其中该表层具有由5至50微米之厚度,而所有 成份层之总厚度系由8至300微米。
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