| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung bzw. ein Verfahren zum Abscheiden einer oder mehrerer Schichten auf wenigstens einem in einer Reaktionskammer (1) angeordneten Substrat (2), unter Verwendung eines flüssigen oder festen Ausgangsstoffes für eines der eingesetzten Reaktionsgase, die mittels einer Gaseinlasseinheit (8) der Reaktionskammer (1) zugeführt werden, wo sie auf dem Substrat kondensieren oder epitaktisch aufwachsen. Die Gaseinlasseinheit besitzt eine Vielzahl von Puffervolumen, in die die Reaktionsgase getrennt voneinander eintreten und auch räumlich getrennt durch dicht aneinander liegende Austrittsöffnungen austreten. Die Reaktionsgase werden auf ihrem Weg durch die Gaseinlasseinheit temperiert.</p> |
