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经营范围
发明名称
PRECURSOR CHEMISTRIES FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF RUTHENIUM AND RUTHENIUM OXIDE
摘要
申请公布号
KR20010074855(A)
申请公布日期
2001.08.09
申请号
KR1020017002534
申请日期
2001.02.27
申请人
发明人
分类号
C23C16/22
主分类号
C23C16/22
代理机构
代理人
主权项
地址
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