发明名称 | 光隔离器的光学器件的制造方法 | ||
摘要 | 为了提供能进行大量金化处理,且能大量生产的高可靠焊接的高可靠性的光隔离器的光学器件的制造方法,在光学材料片1的表面,沿切出多个光学器件的预定切断线,设置比切断余量大的沟宽的条沟2,再形成防反射膜和金属化膜3,沿该条沟2切断,制成光学器件5。 | ||
申请公布号 | CN1069413C | 申请公布日期 | 2001.08.08 |
申请号 | CN95191338.7 | 申请日期 | 1995.11.27 |
申请人 | 株式会社东金 | 发明人 | 大泽隆二 |
分类号 | G02F1/09 | 主分类号 | G02F1/09 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨凯;王忠忠 |
主权项 | 1.一种光隔离器的光学器件的制造方法,其特征是,在能切出多个光学器件尺寸的光学材料片表面,沿预定切断线,预先形成条沟,然后,形成防反射膜,以及形成用以与支座的金属熔接接合的金属化膜,并用比上述条沟的沟宽度还要狭的切断宽度进行切断。 | ||
地址 | 日本宫城县仙台市 |