| 摘要 |
<p>Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Ermittlung geometrisch optischer Abbildungsfehler bis einschliesslich 3. Ordnung in teilchenoptischen, sondenformenden Anordnungen, insbesondere Rasterelektronenmikroskopen, mit einer punktförmigen Quelle, Linsen, einem Objekt und einem Detektor, wobei die Abbildung erfasst wird (6), der Vorgang mit einem unter- und einem überfokussierten Strahl wiederholt wird, die Abbildungen (6, 6a, 6b) in den Fourierraum transformiert werden, die Transformation der überfokussierten als auch unterfokussierten Abbildung (7a) durch die der fokussierten Abbildung (7) dividiert (8) und das Ergebnis zurücktransformiert wird, und somit die Helligkeitsprofile der Sonden (5, 5a), d.h. der Abbildungen der Quelle (1) im Über- und Unterfokus, ermittelt werden, die Asymmetrie, die Breite und/oder die Krümmung des Profils (9, 9a) im Schwerpunkt bestimmt wird, und aus den Unterschieden die Abbildungsfehler ermittelt werden.</p> |
