| 主权项 |
1.一种如式(I')及/或式(II")所示之经磷修饰之环氧树脂其中:R1.R2及R3系各别独立地为C1-4烷基,且q为0至40之整数。2.如申请专利范围第1项之经磷修饰之环氧树脂,其中q为0至10之整数。3.如申请专利范围第1项之经磷修饰之环氧树脂,其平均分之量Mn系介于200至5,000之间。4.一种制备如申请专利范围第1至3项中任一项之经磷修饰之环氧树脂的方法,其包括式(IV)膦酸酐及/或式(V)亚膦酸酐(其中R1.R2及R3为如上述所定义者)与下式之多环氧化合物(其中q为如上述所定义者)于惰性溶剂中或以适当之反应方法进行主体反应。5.如申请专利范围第4项之方法,其中该反应系于–20℃至170℃之温度下进行。6.如申请专利范围第1至3项中任一项之经磷修饰之环氧树脂或由如申请专利范围第4或5项之方法所获致之经磷修饰之环氧树脂,其视情况与无磷之环氧树脂混合,以制造成型品,涂层或层积物,适宜地系用于电子工程。7.一种成型品、涂层或层积物,其系利用如申请专利范围第1至3项中任一项之经磷修饰之环氧树脂或由如申请专利范围第4或5项之方法所获致之经磷修饰之环氧树脂加以制造。 |
