| 主权项 |
1.一种如下式(1)所示之聚矽氧烷化合物: (式中, 或 ,其中R1.R2为氢原子或碳 数1-6之直链或支链烷基;R3为碳数1-6之直链或支链 烷基;R4为氢原子或甲基;x、y、z为可使x+y+z=1之数 目,x及y皆不为0;又n为1-3的整数;Q为选自叔丁氧羰 氧基、叔丁氧羰甲氧基、叔丁氧基、三甲基矽烷 氧基、四氢喃氧基之酸不稳定基)。2.一种正型 光阻材料,其系含有如申请专利范围第1项所述之 聚矽氧烷化合物。3.一种可于性水溶液中显像 之正型光阻材料,其系含申请专利范围第1项所述 之聚矽氧烷化合物与下式(2)所示之经放射线照射 作用可分解产生酸之酸产生剂二成份; (R)pJM (2) (式中,R为相同或不同之苯基或,R′3CO-(R′为受碳 数1-10之烷基、芳基等取代或未取代之一价烃基) 所示之叔烷氧基、叔丁氧羰氧基,或叔丁氧羰甲氧 基取代之苯基,且R中至少有一个为具取代之苯基;J 为硫盐或碘;M为三氟甲烷磺酸盐,p-甲苯磺 酸盐、八氟丁烷磺酸盐;p为2或3)。4.如申请专利范 围第3项之正型光阻材料,其中可再添加溶解阻碍 剂。 |
