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发明名称 SUBSTRATE SUPPORT FOR A THERMAL PROCESSING CHAMBER
摘要
申请公布号 KR20010072545(A) 申请公布日期 2001.07.31
申请号 KR1020007008831 申请日期 2000.08.11
申请人 发明人
分类号 H01L21/68 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人
主权项
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