光敏树脂组合物

摘要

光敏组合物,包含:(A)碱溶性化合物;(B)至少一种通式Ⅰ或Ⅱ的化合物,其中各基团定义如说明书所述;(C)可光聚合的化合物;该组合物具有出人意料的良好性能,特别是在光刻胶工艺中尤佳。

主权项

1．可碱性显影的光敏组合物，含有：(A)至少一种碱溶性粘结树脂、预聚物或单体组分；(B)至少一种通式1或Ⅱ的化合物其中：R₁是C₄～C₉环烷酰基；C₃～C₁₂链烯酰基；C₁～C₂₀链烷酰基，其是未取代的，或者由一个或多个卤、CN或苯基取代；或者R₁是苯甲酰基，其是未取代的或者由一个或多个C₁～C₆烷基、卤、CN、OR₃、SR₄或NR₅R₆取代；或者R₁是C₂～C₁₂烷氧基羰基或苄氧基羰基；或者是未取代的或由一个或多个C₁～C₆烷基或卤取代的苯氧基羰基；Ar₁是C₆～C₂₀芳基或C₆～C₂₀芳酰基，两种基团是未取代的或者由卤、C₁～C₂₀烷基、苄基、C₁～C₂₀链烷酰基、C₃～C₈环烷基取代1～12次；或者所述C₆～C₂₀芳基或C₆～C₂₀芳酰基由苯基或苯甲酰基取代，后两者各自任选由一个或多个OR₃、SR₄或NR₅R₆取代；或者所述C₆～C₂₀芳基或C₆～C₂₀芳酰基任选由一个或多个-O-隔断和/或任选由一个或多个羟基取代的C₂～C₁₂烷氧基羰基取代；或者所述C₆～C₂₀芳基或C₆～C₂₀芳酰基由苯氧基羰基、OR₃、SR₄、SOR₄、SO₂R₄或NR₅R₆取代，其中，取代基OR₃、SR₄、NR₅R₆任选形成5或6元环，所述环由基团R₃、R₄、R₅和/或R₆与C₆～C₂₀芳基或C₆～C₂₀芳酰基的芳环上的其它取代基形成，或由它们与C₆～C₂₀芳基或C₆～C₂₀芳酰基的芳环的碳原子之一形成；或者，Ar₁是C₃～C₉杂芳基，但须R₁是乙酰基，所述C₃～C₉杂芳基是未取代的或由卤、C₁～C₂₀烷基、苄基、C₁～C₂₀链烷酰基或C₃～C₈环烷基取代1～7次，或者所述C₃～C₉杂芳基由苯基或苯甲酰基取代，后二者各自任选由一个或多个OR₃、SR₄或NR₅R₆取代；或者所述C₃～C₉杂芳基任选由一个或多个-O-隔断的和/或任选由一个或多个羟基取代的C₂～C₁₂烷氧基羰基所取代；或者，所述C₆～C₂₀芳基或C₆～C₂₀芳酰基由苯氧基羰基、OR₃、SR₄、SOR₄、SO₂R₄或NR₅R₆取代；x为2或3；当x为2时，M₁是其中的每一个任选由下述基团取代1～12次，即卤、C₁～C₁₂烷基、C₃～C₈环烷基、苄基，未取代的或由一个或多个OR₃、SR₄或NR₅R₆取代的苯基，未取代的或由一个或多个OR₃、SR₄或NR₅R₆取代的苯甲酰基，C₁～C₁₂链烷酰基，任选由一个或多个-O-隔断的和/或任选由一个或多个OH、苯氧羰基、OR₃、SR₄、SOR₄、SO₂R₄或NR₅R₆取代的C₂～C₁₂烷氧基羰基；或者，当x为3时，M₁是其中每一个任选由下述基团取代1～12次，即卤，C₁～C₁₂烷基，C₃～C₈环烷基，未取代的或者由一个或多个OR₃、SR₄或NR₅R₆取代的苯基，苄基，苯甲酰基，C₁～C₁₂链烷酰基，任选由一个或多个-O-隔断的和/或任选由一个或多个羟基、苯氧基羰基、OR₃、SR₄、SOR₄、SO₂R₄或NR₅R₆取代的C₂～C₁₂烷氧基羰基；M₂是直接键、-O-、-S-、-SS-、-NR₃-、-(CO)-、C₁～C₁₂亚链烷基、亚环己基、亚苯基、亚萘基、-(CO)O-(C₂～C₁₂亚链烷基)-O(CO)-、-(CO)O-(CH₂CH₂O)_n-(CO)-或-(CO)-(C₂～C₁₂亚链烷基)-(CO)，或者，M₂是C₄～C₁₂亚链烷基或C₄～C₁₂亚链烷二氧基，其中各自任选由1～5个-O-、-S-、和/或-NR₃-所隔断；M₃是直接键、-CH₂-、-O-、-S-、-SS-、-NR₃-或-(CO)-；M₄是R₃是氢或C₁～C₂₀烷基；或R₃是由下述基团取代的C₂～C₁₂烷基，即-OH、-SH、-CN、C₃～C₆链烯氧基、-OCH₂CH₂CN、OCH₂CH₂(CO)O(C₁～C₄烷基)、-O(CO)-C₁～C₄烷基、-O(CO)-苯基、-(CO)OH、-(CO)O(C₁～C₄烷基)、-N(C₁～C₄烷基)₂、-N(CH₂CH₂OH)₂、-N[CH₂CH₂O-(CO)-C₁～C₄烷基]₂或吗啉基；或者，R₃是由一个或多个-O-隔断的C₂～C₁₂烷基；或者，R₃是-(CH₂CH₂O)_n+1H、-(CH₂CH₂O)_n(CO)-C₁～C₈烷基、C₁～C₈链烷酰基、C₃～C₁₂链烯基、C₃～C₆链烯酰基、C₃～C₈环烷基；或者R₃是未取代的或由一个或多个C₁～C₆烷基、卤、-OH或C₁～C₄烷氧基取代的苯甲酰基；或者，R₃是苯基或萘基，各自均是未取代的或由下述基团取代，即卤、-OH、C₁～C₁₂烷基、C₁～C₁₂烷氧基、苯基-C₁～C₃-烷氧基、苯氧基、C₁～C₁₂烷硫基、苯硫基、-N(C₁～C₁₂烷基)₂、二苯基氨基或-(CO)R₇；或者R₃是苯基-C₁～C₃-烷基或Si(C₁～C₆烷基)_r(苯基)_3-r；r为0,1,2或3；n为1-20；R₄是氢，C₁～C₂₀烷基，C₃～C₁₂链烯基，C₃～C₈环烷基，苯基-C₁～C₃烷基，由下述基团取代的C₂～C₈烷基，即-OH、-SH、-CN、C₃～C₆链烯氧基、-OCH₂CH₂CN、-OCH₂CH₂(CO)O(C₁～C₄烷基)、-O(CO)-C₁～C₄烷基、-O(CO)-苯基、-(CO)OH或-(CO)O(C₁～C₄烷基)；或者，R₄是由一个或多个-O-或-S-隔断的C₂～C₁₂烷基；或者，R₄是-(CH₂CH₂O)_n+1H、-(CH₂CH₂O)_n(CO)-C₁～C₈烷基、C₂～C₈链烷酰基、C₃～C₁₂链烯基、C₃～C₆链烯酰基；或者，R₄是苯基或萘基，其中每一个是未取代的或由卤、C₁～C₁₂烷基、C₁～C₁₂烷氧基或-(CO)R₇取代的；R₅和R₆彼此无关，各自是氢、C₁～C₂₀烷基、C₂～C₄羟烷基、C₂～C₁₀烷氧基烷基、C₃～C₅链烯基、C₃～C₈环烷基、苯基-C₁～C₃烷基、C₁～C₄链烷酰基、C₃～C₁₂链烯酰基、苯甲酰基；或者，是苯基或萘基，其中每个是未取代的或由C₁～C₁₂烷基或C₁～C₁₂烷氧基取代的；或者，R₅和R₆均是任选由-O-或-NR₂-隔断的和/或任选由羟基、C₁～C₄烷氧基、C₂～C₄链烷酰氧基或苯甲酰氧基取代的C₂～C₆亚链烷基；R₇是氢、C₁～C₂₀烷基；或是由下述基团取代的C₂～C₈烷基、即卤、苯基、-OH、-SH、-CN、C₃～C₆链烯氧基、-OCH₂CH₂CN、-OCH₂CH₂(CO)O(C₁～C₄烷基)、-O(CO)-C₁～C₄烷基、-O(CO)-苯基、-(CO)OH或-(CO)O(C₁～C₄烷基)；或者，R₇是由一个或多个-O-隔断的C₂～C₁₂烷基；或者，R₇是-(CH₂CH₂O)_n+1H、-(CH₂CH₂O)_n(CO)-C₁～C₈烷基、C₃～C₁₂链烯基、C₃～C₈环烷基；任选由下述基团取代的苯基，即一个或多个卤、-OH、C₁～C₁₂烷基、C₁～C₁₂烷氧基、苯氧基、C₁～C₁₂烷硫基、苯硫基、-N(C₁～C₁₂烷基)₂或二苯基氨基；和(C)可光聚合的化合物。