| 发明名称 | 用于监测晶片洗涤液中金属杂质浓度的方法 | ||
| 摘要 | 一种用于测定硅片洗涤液中痕量碱金属或碱土金属杂质的方法,上述洗涤液保持连续流过浴槽(8)。该方法包括连续地将洗涤液流中的其中一部分洗涤液输送到样品池(1)中并通过该样品池(1)。然后抽取(41)并分析(4)该溶液的样品,以便测定洗涤浴液中痕量碱金属、碱土金属或过渡金属杂质的浓度。另外,可以在洗涤液中杂质浓度与实验上确定的相关性之间进行比较,以便确定硅片表面上的杂质浓度是否超过约1×10<SUP>10</SUP>原子/cm<SUP>2</SUP>。 | ||
| 申请公布号 | CN1305587A | 申请公布日期 | 2001.07.25 |
| 申请号 | CN99807175.7 | 申请日期 | 1999.06.04 |
| 申请人 | MEMC电子材料有限公司 | 发明人 | 埃里克·J·莫里;拉里·W·夏夫;菲利普·R·施密特 |
| 分类号 | G01N33/18;G01N1/20;H01L21/00 | 主分类号 | G01N33/18 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王景林 |
| 主权项 | 1．用于测定硅片洗涤液中金属杂质浓度的方法，上述清洗液保持连续的流经洗涤浴槽，该方法包括：连续地从上述液流中将其中一部分洗涤浴液输送到样品池并通过该样品池；从样品池中抽取洗涤液样品；和分析抽取的样品，以便测定洗涤浴液中痕量碱金属、碱土金属或过渡金属杂质的浓度。 | ||
| 地址 | 美国密苏里 | ||