| 发明名称 | 用于193纳米波长的正性光刻胶组合物 | ||
| 摘要 | 一种聚合物,当同适宜的光酸生成剂(PAG)使用时,生成正性光刻胶。该聚合物包括酒石酸聚酐的主链、缩醛保护的1,2－二醇基团和连接于主链的稠环缩醛侧基。缩醛保护的α－羟基酐主链进行有效的光酸催化的裂解生成小分子量片段,这些片段易溶于碱的含水的显影剂中。溶解度的高度差别使可以得到高分辨率图象,提供了耐蚀刻性的稠环包括金刚酮或将樟脑结构,随着加入市场购得的光酸生成剂,聚合物制剂形成正性光刻胶,可以提供高反差和高分辨率的图象。 | ||
| 申请公布号 | CN1305608A | 申请公布日期 | 2001.07.25 |
| 申请号 | CN99807271.0 | 申请日期 | 1999.06.02 |
| 申请人 | 克拉里安特国际有限公司 | 发明人 | I·麦克洛克;A·J·伊斯特;M·坎格;R·克斯安;H－N·尤恩 |
| 分类号 | G03F7/039;C08G67/04 | 主分类号 | G03F7/039 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈季壮 |
| 主权项 | 1．一种特别适用作光刻胶的聚合物，包括下面结构：<img file="A9980727100021.GIF" wi="656" he="688" /> | ||
| 地址 | 瑞士穆腾茨 | ||