| 主权项 |
1.一种双色过滤器之制造方法,包括下列步骤:(a)提供一基板;(b)形成一第一金属层于该基板上;(c)形成一第二金属层于该第一金属层上;(d)形成一光阻层于该第二金属层之预定表面上;(e)实施蚀刻,以便去除未被该光阻层遮蔽之该第一金属层与该第二金属层部份,藉以分别形成一第三金属层与一第四金属层于该基板上;(f)主要形成一光学膜于该光阻层与该基板之表面,其中,可藉由控制该第一金属层与该第二金属层之厚度,亦即第三金属层与该第四金属层之厚度,使得该光学膜不会完全覆盖该第四金属层之两侧,甚至该第三金属层之两侧;以及(g)去除该第三金属层与该第四金属层,并同时会使该光阻层剥落,如此使该光学膜只保留于该第三金属层与该第四金属层相邻两侧之基板上。2.如申请专利范围第1项所述之双色过滤器之制造方法,其中该基板为玻璃基板。3.如申请专利范围第1项所述之双色过滤器之制造方法,其中该第一金属层为一铝层。4.如申请专利范围第3项所述之双色过滤器之制造方法,其中该铝层之厚度为2.0-2.5微米。5.如申请专利范围第3项所述之双色过滤器之制造方法,其中该第二金属层为一镍层。6.如申请专利范围第5项所述之双色过滤器之制造方法,其中该镍层之厚度为6-8微米。7.如申请专利范围第5项所述之双色过滤器之制造方法,其中该第三金属层与该第四金属层分别为铝层与镍层。8.如申请专利范围第1项所述之双色过滤器之制造方法,其中该光学膜为一SiO2/TiO2多层膜。9.如申请专利范围第8项所述之双色过滤器之制造方法,其中该SiO2/TiO2多层膜之厚度为1.8-2.0微米。10.如申请专利范围第1项所述之双色过滤器之制造方法,其中该光阻层具有一T型剖面。11.一种双色过滤器之制造方法,包括下列步骤:(a)提供一基板;(b)形成一第一金属层于该基板上;(c)形成一光阻层于该第一金属层之预定表面上;(d)实施蚀刻,以便将暴露之该第一金属层去除,藉以形成一第二金属层于该基板上;(e)主要形成一光学膜于该光阻层与该基板之表面,其中,可藉由控制该第一金属层之厚度,亦即第二金属层之厚度,以使得该光学膜不会完全覆盖该第二金属层之两侧;以及(f)去除该第二金属层,并同时会使该光阻层剥落,如此使该光学膜只保留于该第二金属层相邻两侧之基板上。12.如申请专利范围第11项所述之双色过滤器之制造方法,其中该基板为玻璃基板。13.如申请专利范围第11项所述之双色过滤器之制造方法,其中该第一金属层为铝层。14.如申请专利范围第13项所述之双色过滤器之制造方法,其中该铝层之厚度为7-10微米。15.如申请专利范围第13项所述之双色过滤器之制造方法,其中该第二金属层为铝层。16.如申请专利范围第11项所述之双色过滤器之制造方法,其中该光学膜为一SiO2/TiO2多层膜。17.如申请专利范围第16项所述之双色过滤器之制造方法,其中该SiO2/TiO2多层膜之厚度为1.8-2.0微米。18.如申请专利范围第11项所述之双色过滤器之制造方法,其中该光阻层具有一T型剖面。图式简单说明:第一图A-第一图G系显示出依照本发明一较佳实施例之一种双色过滤器之制造方法之示意图剖面图。 |
