发明名称 水波纹之模拟方法
摘要 本发明是有关于一种水波纹之模拟方法,以起始标的位置呈三角波形排列之数直线细条来模拟水波纹之流动,透过定义该直线细条之宽度大小来表现不同波浪大小的水波,以及设定该起始标的位置之参数大小来变化实现不同波浪幅度、不同行进方向之水波,可依每次模拟所需之各种不同形态之水波,灵活改变各参数设定,进而在显示器上表现出所模拟之水波纹。
申请公布号 TW446889 申请公布日期 2001.07.21
申请号 TW088107596 申请日期 1999.05.11
申请人 英业达股份有限公司 发明人 詹浩博;赵一
分类号 G06F17/14 主分类号 G06F17/14
代理机构 代理人 许世正 台北巿忠孝东路五段四一○号四楼
主权项 1.一种水波纹之模拟方法,以起始标的位置呈三角波形排列之数直线细条模拟水波纹之流动,包括有:设定该直线细条之宽度,用以表示水波之大小,该直线细条之宽度大小系与欲模拟水波纹之大小相对应;设定第一个的基准位置之値为0;设定幅度参数,该幅度参数之大小与水波之幅度大小相对应;设定偏移极限量,以控制该直线细条之起始标的位置的折返;计算该起始标的位置之値,该起始标的位置为基准位置与幅度参数之函数,且该起始标的位置之値需小于该偏移极限量;取出该起始标的位置之値,以得到直线细条之起始标的位置;画出直线细条;设定新的基准位置,该基准位置系为该起始标的位置;判断直线细条是否均已画完,当仍有直线细条未画完,则重回计算起始标的位置之步骤,当直线细条均已画完,则进行下一步骤;设定新的起始标的位置,该新的起始标的位置为原有起始标的位置与一偏移量之函数,且该新的起始标的位置之値需小于该偏移极限量;以及重回画出直线细条之步骤。2.如申请专利范围第1项所述之水波纹之模拟方法,其中计算该起始标的位置之步骤,更进一步包括下列步骤:设定一第一函数为该基准位置与该幅度参数之和函数;设定一第二函数为该基准位置与该幅度参数之差函数;计算并取得该第一函数之函数値;判断该第一函数之函数値是否小于该偏移极限量,当该函数値小于该偏移极限量,则跳至设定起始标的位置之步骤,当该第一函数之函数値系大于该偏移极限量,则进行下一步骤;计算并取得该第二函数之函数値;以及设定起始标的位置之値,该起始标的位置之値系为该函数値。3.如申请专利范围第2项所述之水波纹之模拟方法,其中该第一函数为该基准位置与该幅度参数之和函数,其函数値系为该基准位置加上该幅度参数之値。4.如申请专利范围第2项所述之水波纹之模拟方法,其中该第二函数为该基准位置与该幅度参数之差函数,其函数値系为该基准位置减去该幅度参数之値。5.如申请专利范围第1项所述之水波纹之模拟方法,其中设定新的起始标的位置之步骤,更进一步包括下列步骤:设定一第三函数为原有之起始标的位置与该偏移量之和函数;设定一第四函数为原有之起始标的位置与该偏移量之差函数;计算并取得该第三函数之函数値;判断该第三函数之値是否小于该偏移极限量,当该函数値小于该偏移极限量,则跳至设定新的起始标的位置之步骤,当该第三函数之函数値系大于该偏移极限量,则进行下一步骤;计算并取得该第四函数之函数値;以及设定新的起始标的位置之値,该新的起始标的位置之値系为该函数値。6.如申请专利范围第5项所述之水波纹之模拟方法,其中该第三函数为原有之起始标的位置与该偏移量之和函数,其函数値系为原有之起始标的位置加上该偏移量之値。7.如申请专利范围第5项所述之水波纹之模拟方法,其中该第二函数为原有之起始标的位置与该偏移量之差函数,其函数値系为原有之起始标的位置减去该偏移量之値。8.如申请专利范围第1项所述之水波纹之模拟方法,其中该直线细条之方向系与水波之流动方向相同。9.如申请专利范围第1项所述之水波纹之模拟方法,其中该重回计算起始标的位置之步骤系经一段延迟时间才实施,以使水波纹的实现更为平稳。图式简单说明:第一图系为以本发明水波纹之模拟方法之步骤流程图。第二图系为计算起始标的位置之详细步骤流程图。第三图系为以本发明呈三角波形排列之数直线细条来模拟水波纹之示意图。第四图系为设定新的起始标的位置之详细步骤流程图。第五图A-第五图B系为经一段延迟时间后的水波纹变化之示意图。
地址 台北巿士林区后港街六十六号
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