| 主权项 |
1.一种产生高速重覆率光脉动之装置,包括: 在一第一雷射频率下操作的一脉动雷射,该第一雷 射频率在启始脉动率下产生一启始雷射束波并具 有启始雷射频率; 一雷射频率转换器,用以将启始雷射频率增加至产 生一第二且较高雷射频率的第二雷射束波;以及 一脉动重覆率乘法器,其接收第二雷射束波并且产 生至少一个脉动第三光束波,其有较启始率高的脉 动重覆率。2.如申请专利范围第1项之装置,其中第 二雷射束波包含紫外线束波。3.如申请专利范围 第1或2项之装置,其中启始雷射束渡为红外线束波 。4.如申请专利范围第1或2项之装置,其中至少一 个第三脉动的光束波至少为80MHz。5.如申请专利范 围第1或2项之装置,其中至少一个第三脉动的光束 波包含复数个光束元,其每一光束元有该较高的脉 动率。6.一种用以产生高重覆率雷射脉动之方法, 包含: 提供一第一脉动重覆率下并具有一启始雷射频率 的第一雷射束波; 将雷射频率转换成较高频率来产生,一高于启始雷 射频率的第二雷射频率下并具有启始脉动重覆率 的第二脉动束波; 将第二脉动光束波的脉动率乘积,来产生至少一个 脉动的光束波,其具有较启始率高之脉动重覆率。 7.如申请专利范围第6项之方法,其中第二雷射束波 包含紫外线束波。8.如申请专利范围第6或7项之方 法,其中第一雷射束波为红外线束波。9.如申请专 利范围第6或7项中所述之方法,其中至少一个第三 脉动的光束波的脉动率至少为80MHz。10.如申请专 利范围第6或7项之方法,其中至少一个第三脉动的 光束波包含复数个光束元,其每一光束元该较高的 脉动率。11.一种于数据率下传送资讯的装置,包含 : 一脉动光源,产生有脉动重覆率的脉动光;以及 一调变器,于据率下非同步调变脉动光。12.如申请 专利范围第11项之装置,其中脉动光源为线光源,且 调变器在其中空间调变此线。13.如申请专利范围 第12项之装置,其中调变器单独地于数据率下调变 线光源的不同部分。14.如申请专利范围第11至13项 的任一项之装置,其中数据率实质上高于脉动重覆 率。15.如申请专利范围第14项之装置,其中脉动重 覆率至少为数据率的两倍。16.如申请专利范围第 15项之装置,其中脉动率至少为数据率的三倍。17. 如申请专利范围第16项之装置,其中脉动重覆率至 少为数据率的四倍。18.如申请专利范围第11至13项 中的任一项之装置,其中脉动率低于数据率。19.如 申请专利范围第11至13项的任一项之装置,其中脉 动光为雷射光。20.如申请专利范围第19项之装置, 其中脉动光包含一雷射束波。21.一种记录影像于 光敏表面的装置,包含: 一脉动光源,产生有脉动重覆率的脉动光; 一调变器,于据率下调变脉动光;以及 一扫瞄器,已调变的脉动光于表面上扫瞄。22.如申 请专利范围第21项之装置,其中脉动光源为线光源, 且调变器在其中空间调变此线。23.如申请专利范 围第22项之装置,其中调变器单独地于数据率下调 变线光源的不同部分。24.如申请专利范围第21项 之装置,其中调变与脉动非同步。25.如申请专利范 围第22项之装置,其中调变与脉动非同步。26.如申 请专利范围第23项之装置,其中调变与脉动非同步 。27.如申请专利范围第21至26项的任一项之装置, 已调变的光在其中以第一方向扫瞄表面,且表面在 其中以一与扫瞄方向垂直的方向移动,使得表面由 一光栅扫瞄来照明。28.如申请专利范围第21至26项 的任一项之装置,其中光敏表面为一光致抗蚀剂。 29.如申请专利范围第21至23项的任一项之装置,其 中数据率与脉动重覆率相同。30.如申请专利范围 第21至26项的任一项之装置,其中数据率实质上高 于脉动重覆率。31.如申请专利范围第30项之装置, 其中脉动重覆率至少为数据率的两倍。32.如申请 专利范围第31项之装置,其中脉动重覆率至少为数 据率的三倍。33.如申请专利范围第31项之装置,其 中脉动重覆率至少为数据率的四倍。34.如申请专 利范围第21至26项的任一项之装置,其中脉动率低 于数据率。35.如申请专利范围第21至26项的任一项 之装置,其中脉动光为雷射光。36.如申请专利范围 第35项中所述之装置,其中脉动光包含一雷射束波 。37.如申请专利范围第21至26项的任一项之装置, 其中脉动光是使用一种脉动光产生器所产生,其包 含: 一束波产生器,产生启始脉动光束波,其有启始脉 动重覆率;以及 一脉动重覆率乘法器,接收启始脉动光束波并产生 至少一个脉动光束波,其有高于启始率的脉动重覆 率。38.如申请专利范围第37项之装置,并包括一第 二重覆率乘法器,其接收由重覆率乘法器的输出束 波,并产生一输出束波,其重覆率高于其接收之束 波的重覆率。39.如申请专利范围第37项之装置,其 中第一重覆率乘法器以及第二重覆率乘法器各将 重覆率双倍化。40.如申请专利范围第37项之装置, 其中已增加的脉动重覆率为启始脉动率的两倍。 41.如申请专利范围第37项之装置,其中已增加的脉 动重覆率为启始脉动率的三倍。42.如申请专利范 围第37项之装置,其中已增加的脉动重覆率为启始 脉动率的四倍。43.如申请专利范围第37项之装置, 其中已增加的脉动重覆率大于启始脉动率的四倍 。44.如申请专利范围第37项之装置,其中脉动光束 波产生器产生一雷射束波。45.如申请专利范围第 44项之装置,其中雷射束波产生器包含: 一脉动雷射,以启始雷射频率操作; 一雷射频率转换器,其增加雷射频率来产生光束波 。46.如申请专利范围第45项之装置,其中脉动雷射 包含一锁模雷射。47.如申请专利范围第45项之装 置,其中脉动雷射为一红外线雷射。48.如申请专利 范围第47项之装置,其中光束波为一紫外线雷射束 波。49.如申请专利范围第47项之装置,其中在较高 的重覆率脉动中所含的功率实质上与启始脉动光 束波的功率相等。50.一种于数据率传送资讯的方 法,包含: 提供脉动光,此脉动光于一脉动重覆率脉动;以及 非同步调变脉动光,于脉动重覆率下。51.如申请专 利范围第50项之方法,其中脉动的光源为线光源,且 其中的调变包含空间调变此线。52.如申请专利范 围第51项之方法,其中线的不同部分于数据率独立 地调变。53.一种记录影像于光敏表面的方法,包含 : 提供脉动光,于重覆率下来脉动; 调变,于数据率下调变脉动光;以及 扫瞄,于表面上扫瞄已调变的脉动光。54.如申请专 利范围第53项之方法,其中脉动的光源为线光源,且 其中的调变包含空间调变此线。55.如申请专利范 围第54项之方法,其中线的不同部分于数据率独立 地调变。56.如申请专利范围第53项之方法,其中调 变与脉动非同步。57.如申请专利范围第54项之方 法,其中调变与脉动非同步。58.如申请专利范围第 55项之方法,其中调变与脉动非同步。59.如申请专 利范围第53至58项的任一项之方法,其中已调变的 脉动光以第一方向扫瞄表面,且其中表面以一与扫 瞄方向垂直的方向移动,使得表面由光栅扫瞄来照 明。60.如申请专利范围第53至58项的任一项之方法 ,其中光敏表面为一光致抗蚀剂。61.如申请专利范 围第53至58项的任一项之方法,其中数据率与脉动 重覆率相同。62.如申请专利范围第53至58项的任一 项之方法,其中数据率实质上高于脉动重覆率。63. 如申请专利范围第62项之方法,其中脉动重覆率至 少为数据率的两倍。64.如申请专利范围第63项之 方法,其中脉动重覆率至少为数据率的三倍。65.如 申请专利范围第63项之方法,其中脉动重覆率至少 为数据率的四倍。66.如申请专利范围第53至58项的 任一项之方法,其中脉动率低于数据率。67.如申请 专利范围第53至58项的任一项之方法,其中脉动光 为雷射光。68.如申请专利范围第67项中所述之方 法,其中脉动光包含一雷射束波。69.如申请专利范 围第53至58项的任一项之方法,其中提供脉动光包 含: 产生启始脉动光束波,其有启始脉动重覆率;以及 将启始脉动乘积来产生至少一个脉动光束波,其有 高于启始率的脉动重覆率。70.如申请专利范围第 69项之方法,其中更进一步包括乘积至少一脉动光, 来产生输出束波,其有重覆率高于至少一个脉动光 束波的重覆率。71.如申请专利范围第70项之方法, 其中乘积及更进一步乘积,每次将重覆率双倍化。 72.如申请专利范围第69项中所述之方法,其中已增 加的脉动重覆率为启始脉动率的两倍。73.如申请 专利范围第69项之方法,其中已增加的脉动重覆率 为启始脉动率的三倍。74.如申请专利范围第69项 之方法,其中已增加的脉动重覆率为启始脉动率的 四倍。75.如申请专利范围第69项之方法,其中已增 加的脉动重覆率大于启始脉动率的四倍。76.如申 请专利范围第69项之方法,其中脉动光束波为一雷 射束波。77.如申请专利范围第76项之方法,其中提 供雷射束波包含: 提供一脉动雷射,于启始雷射频率下产生启始雷射 脉动的; 转换雷射频率至一较高频率来产生光束波。78.如 申请专利范围第76项之方法,其中脉动雷射包含一 锁模雷射。79.如申请专利范围第77项之方法,其中 脉动雷射为一红外线雷射。80.如申请专利范围第 69项之方法,其中光束波为一紫外线雷射束波。81. 如申请专利范围第69项之方法,其中在较高的重覆 率脉动中所含的功率实质上与启始脉动光束波的 功率相等。82.如申请专利范围第21至26项的一项之 装置,其中: 调变器选择调变束波的部分,其中该部分由一脉动 接一脉动送达至光敏表面的空间交叠区域,来建立 一像素化图案。83.一种于光敏表面曝光图案的装 置,包含: 一提供束波的雷射光源,其束波由时间间隔分开之 实质上为连续瞬时的雷射脉动组成的; 一数据信号原来提供信号; 一调变器来接收束波及数据信号,并于一较该时间 间隔长的时间里,以一对此数据信号敏感的调变信 号选择调变束波,使得调变信号可以操作来调变至 少两个连续脉动;以及 一光学子系统来接收已调变的光,并将调变器的影 像投射于光敏表面上来曝光图案,如其上该调变的 信号。84.如申请专利范围第83项之装置,其中调变 器为声光调变器。85.如申请专利范围第84项中所 述之装置,其中调变信号为声波。86.如申请专利范 围第83至85项的任一项之装置,其中调变信号的一 特质于连续两脉动间至少部分改变。87.如申请专 利范围第85项之装置,其中调变信号的性质于连续 两脉动间的至少一部分改变,且其中调变器有一定 义的长度,且其性质为调变器中声波的长度。88.如 申请专利范围第87项之装置,其中光点的形状由束 波中的脉动形成,如由光学子系统所投射,其至少 部分由调变器中声波的长度来定义。89.如申请专 利范围第87项之装置,并包含一扫瞄子系统来于光 敏表面上来扫瞄调变器的影像。90.如申请专利范 围第89项之装置,其中声波在调变器中以第一速度 传播,其有第一传播率与第一方向的,且在光敏表 面上来扫瞄调变器的影像,其速度有关声波传播的 速度,唯其方向相反。91.一种曝光图案于光敏表面 的装置,包含: 一雷射光源,提供由连显雷射脉动所形成的束波; 以及 一调变器,来选择调变此束波,来提供可用来记录 图案的多数个脉动,其中至少一部分可用来记录图 案的脉动有不同的空间形状;以及 一扫瞄器,来将可用来记录图案的多数的脉动扫瞄 至一光敏表面上,来在其上形成图案。92.如申请专 利范围第91项之装置,其中雷射光源为锁模雷射。 93.如申请专利范围第91或92项之装置,其中调变器 为一声光调变器。94.如申请专利范围第93项之装 置,其中脉动的空间形状由调变器中的声波定义的 。95.如申请专利范围第94项之装置,其中每一可用 以记录图案的脉动,于光敏表面上曝光一空间定义 的区域。96.如申请专利范围第95项之装置,其中至 少一部分空间定义的区域彼此相互交叠。图式简 单说明: 第一图为示意图,来示意本发明某些较佳具体实施 例之基本操作原则; 第二图为示意图,来示意如本发明较佳具体实施例 之一种脉动重覆率乘积装置; 第三图示一进出第二图中脉动重覆率乘积装置之 输入、中间及输出束波脉动的时机图; 第四图示一典型之光束再组成的装配,如本发明较 佳具体实施例; 第五图示一可替换的光束组成部分,如本发明较佳 具体实施例; 第六图示一记录光栅图案的系统于底材表面,以同 时地、独立地来数据调变输入雷射束波分离之部 分; 第七图为一雷射束波脉动在扫瞄轴上的能量简表 图; 第八图A-第八图G为一声光调变器水晶中声波产生 之连续阶段的简化图示,以及以第一脉动率提供雷 射脉动; 第九图A-第九图G为简化之图示,来示意与第八图A- 第八图G对应之一组像素以第一脉动率在底材上曝 光之不同阶段; 第十图A-第十图G为能量图,来示意第九图A-第九图G 中像素组其每一阶段曝光的累积能量图; 第十一图A-第十一图G为一声光调变器水晶中声波 产生之连续阶段的简化图示,以及以第二脉动率提 供雷射脉动; 第十二图A-第十二图G为简化之图示,来示意与第十 一图A-第十一图G对应之一组像素以第二脉动率在 底材上曝光之不同阶段; 第十三图A-第十三图G为能量图,来示意第十二图A- 第十二图G中像素组其每一阶段曝光的累积能量图 ; 第十四图-第十四图G为一声光调变器水晶中声波 产生之连续阶段的简化图示,以及提供与在第十一 图A-第十一图G所示第二脉动率不同的脉动率之雷 射脉动; 第十五图A-第十五图G为简化之图示,来示意与第十 一图A-第十一图G对应之一组像素以第二脉动率在 底材上曝光之不同阶段; 第十六图A-第十六图G为能量图,来示意第十五图A- 第十五图G中像素组其每一阶段曝光的累积能量图 ; 第十七图、第十八图,第十九图示一可替换之装配 ,其用来将一如本发明较佳具体实施例之脉动光束 的启始脉动重覆率乘以4; 第二十图为一示意图,用来示意一脉动重覆率乘积 装置,其以如本发明较佳具体实施例之一极化输入 束波脉动来操作; 第二十一图示一进出第二图中草绘之脉动重覆率 乘积装置之输入、中间及输出束波脉动的时机图; 第二十二图示一可替换之脉动重覆率乘积装置的 配置,其以如本发明较佳具体实施例之一极化输入 束波脉动来操作;以及 第二十三图为一示意图,用来示意整合本发明较佳 具体实施例于PCB生产线上的方式。 |
