| 发明名称 |
Verfahren zur Bildung von Mustern unter Verwendung eines Mehrschichtresists |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE4339466(C2) |
申请公布日期 |
2001.07.19 |
| 申请号 |
DE19934339466 |
申请日期 |
1993.11.19 |
| 申请人 |
GOLDSTAR ELECTRON CO., LTD. |
发明人 |
LEE, JUN SEOK |
| 分类号 |
G03F7/26;H01L21/027;H01L21/3105;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/32;H01L21/312 |
主分类号 |
G03F7/26 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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