| 主权项 |
1.一种氢化开环式复分解聚合物:包含至少一结构单位(A)可以如下通式(1)表示:其中R1至R4中之至少一者为取代基含有可由酸分解的基,及其他系选自氢,含1至20个碳原子之烷基,卤原子,含1至20个碳原子之卤化烷基,含1至20个碳原子之烷氧基,含2至20个碳原子之烷氧烷基,含2至20个碳原子之烷基羰氧基,含7至20个碳原子之芳基羰氧基,含1至20个碳原子之烷基磺醯氧基,含6至20个碳原子之芳基磺醯氧基,羧基,羟基,含2至20个碳原子之羧烷基,或含1至20个碳原子之羟烷基;X1系选自-O-、-S-、-NR5-、-PR5-或-CR52-(R5表示氢或含1至20个碳原子之烷基)其可相同或相异;及m表示0或1至3之整数;一结构单位(B)可以如下通式(2)表示:其中R6至R9中之至少一者为含羧基或羟基之取代基,及其他者系选自氢,含1至20个碳原子之烷氧基,含2至20个碳原子之烷氧烷基,含1至20个碳原子之烷基,卤原子,含1至20个碳原子之卤化烷基,含2至20个碳原子之烷基羰基氧基,含7至20个碳原子之芳基羰基氧基,含1至20个碳原子之烷基磺醯氧基,或含6至20个碳原子之芳基磺醯氧基;X2系选自-O-、-S-、NR10-、-PR10-或-CR102-(R10表示氢或含1至20个碳原子之烷基)其可相同或相异;及n表示0或1至3之整数;及一结构单位(C)可以如下通式(3)表示:其中R11至R14中之至少一者为含氰基或内酯基氧羰基之取代基,及其他者系选自氢,羧基,羟基,含2至20个碳原子之羧烷基,含1至20个碳原子之羟烷基,含2至20个碳原子之烷氧羰基,含3至20个碳原子之烷氧羰基烷基,含1至20个碳原子之烷氧基,含2至20个碳原子之烷氧烷基,含1至20个碳原子之烷基,卤原子,或含1至20个碳原子之卤化烷基;X3系选自-O-、-S-、-NR15-、-PR15-或-CR152-(R15表示氢或含1至20个碳原子之烷基)且可相同或相异;及1表示0或1至3之整数,其中结构单位(A)/(B)之组成分莫耳比为由1/99至99/1,及结构单位(B)/(C)之组成分莫耳比为由30/70至100/0及此外,重量平均分子量Mw对数目平均分子量Mn之比亦即Mw/Mn为由1.0至2.0。2.如申请专利范围第1项之氢化开环式复分解聚合物,其中该通式(2)表示之结构单位(B)对通式(3)表示之结构单位(C)亦即(B)/(C)为100/0。3.如申请专利范围第1项之氢化开环式复分解聚合物,其中该通式(1)表示之结构单位(A)系由两种或多种组成及/或通式(2)表示之结构单位(B)系由两种或多种组成及/或通式(3)表示之结构单位(C)系由两种或多种组成。4.如申请专利范围第1项之氢化开环式复分解聚合物,其中该通式(1)表示之结构单位(A)之X1.通式(2)表示之结构单位(B)之X2及通式(3)表示之结构单位(C)之X3中之至少一者为-O-及其他者表示-CH2-。5.如申请专利范围第1项之氢化开环式复分解聚合物,其中该含有可酸割裂基选定作为通式(1)之R1至R4中至少一者之取代基为第三丁氧羰基或四氢喃-2-基氧羰基。6.如申请专利范围第1项之氢化开环式复分解聚合物,其中该选择作为通式(3)之R11至R14中至少一者之含内酯基氧羰基之取代基为-丁内酯基-2-氧羰基或-戊内酯基-2-氧羰基。7.如申请专利范围第1项之氢化开环式复分解聚合物,其中该藉GPC测量作为聚苯乙烯标准之数目平均分子量为500至100,000。8.一种抗光蚀用之聚合物,包含如申请专利范围第1至7项中任一项之氢化开环式复分解聚合物。9.一种制造如申请专利范围第1项之氢化开环式复分解聚合物之方法,该方法包含聚合至少一种通式(4)表示之环状烯属单体,或至少两种通式(4)及(5)表示之环状烯属单体,或至少三个通式(4)、(5)及(6)表示之环状烯属单体,聚合系使用活性开环式复分解触媒进行,以及于氢化触媒存在下氢化聚合物;通式(4)为:其中R21至R24中之至少一者为含有可被酸分解之基之取代基,及其他者系选自氢,含1至20个碳原子之烷基,卤原子,含1至20个碳原子之卤化烷基,含1至20个碳原子之烷氧基,含2至20个碳原子之烷氧烷基,含2至20个碳原子之烷基羰基氧基,含7至20个碳原子之芳基羰基氧基,含1至20个碳原子之烷基磺醯氧基,或含6至20个碳原子之芳基磺醯氧基;X4系选自-O-、-S-、-NR20-、-PR20-或-CR202-(R20表示氢或含1至20个碳原子之烷基)且可相同或相异;及x表示0或1至3之整数;通式(5)为:其中R21至R24中之至少一者为羧基,羟基,含2至20个碳原子之羧烷基,含1至20个碳原子之羟烷基,含1至20个碳原子之烷氧基,含2至20个碳原子之烷氧烷基,含2至20个碳原子之烷基羰基氧基,含7至20个碳原子之芳基羰基氧基,含1至20个碳原子之烷基磺醯氧基,含6至20个碳原子之芳基磺醯氧基,或由R21至R24中之R21与R23形成的羧酸酐,及其他者系选自氢,含1至20个碳原子之烷基,卤原子,含1至20个碳原子之卤化烷基;X5系选自-O-、-S-、-NR25-、-PR25-或-CR252-(R25表示氢或含1至20个碳原子之烷基)且可相同或相异;及y表示0或1至3之整数;通式(6)为:其中R26至R29中之至少一者为含氰基或内酯基氧羰基之取代基,及其他者系选自氢,含2至20个碳原子之烷氧羰基,含3至20个碳原子之烷氧羰基烷基,含1至20个碳原子之烷氧基,含2至20个碳原子之烷氧烷基,含1至20个碳原子之烷基,卤原子,或含1至20个碳原子之卤化烷基;X6系选自-O-、-S-、-NR30-、-PR30-或-CR302-(R30表示氢或含1至20个碳原子之烷基)且可相同或相异;及z表示0或1至3之整数。10.如申请专利范围第9项之制造氢化开环式复分解聚合物之方法,其中该取代基进一步于氢化后转成含有可酸割裂基之新颖取代基。11.如申请专利范围第9项之制造氢化开环式复分解聚合物之方法,其中该水解系进一步于氢化后进行。12.如申请专利范围第9项之制造氢化开环式复分解聚合物之方法,其中该水解系于氢化后进行及该取代基进一步于氢化后转成含有一种可酸割裂基之新颖取代基。13.如申请专利范围第9至12项中任一项之制造氢化开环式复分解聚合物之方法,其中至少一种通式(4)表示之环状烯属单体,或至少两种通式(4)及(5)表示之环状烯属单体,或至少三种通式(4)、(5)及(6)表示之环状烯属单体系使用活性开环式复分解触媒于烯烃或二烯存在下聚合。图式简单说明:第一图显示实例1之开环式复分解聚合物之氢加合物之IR光谱,其中结构单位(A)/(B)之组成比为90/10。第二图显示实例1之开环式复分解聚合物之氢加合物之1H-NMR光谱,其中结构单位(A)/(B)之组成比为90/10。第三图显示实例1之开环式复分解聚合物之氢加合物之UV光谱,其中结构单位(A)/(B)之组成比为90/10。第四图显示比较例1之开环式复分解聚合物之氢加合物之UV光谱,其中结构单位(A)/(B)之组成比为90/10。 |
