| 主权项 |
1.一种使用准分子雷射进行回火的方法,包括:提供由一钙钛矿结构分子所组成的一薄膜;以及于一段时间内,以一准分子雷射照射该薄膜。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该钙钛矿结构分子系为PZT(PbxZr1-xTiO3)分子。3.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该钙钛矿结构分子系为PST(PbxSr1-xTiO3)分子。4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该钙钛矿结构分子系为BST(BaxSr1-xTiO3)分子。5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该钙钛矿结构分子系为SBT(SrBi2 Ta2O3)分子。6.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该准分子雷射之能量系于300毫焦耳至210毫焦耳之间。图式简单说明:第一图绘示的是在各种不同回火条件下所得到的结晶方向与晶体结晶状况关系图;以及第二图绘示的是依照本发明一较佳实施例执行后所得的BST薄膜的介电常数(dielectric)变化状况。 |
