发明名称 | 一种铜熔炼工艺及气密性熔炉 | ||
摘要 | 本发明公开了一种铜熔炼工艺,其特征为:将铜全部熔化后采用低压熔炼,具体为在气密性熔炉内的金属液表面覆盖5—15厘米厚的木炭作为保护剂,然后将熔炉的气密盖盖上,用锁紧机构锁紧,并使熔炉继续升温,在升温过程中进行低压处理,使熔炉内低压达100—160毫米汞柱的时间为6—20分钟,此时熔炉内温达1140℃—1200℃,然后充进氮气将熔炉内压力回升至常压,再打开气密盖进行正常的浇铸。本工艺能生产出极低含气量的高密度优质铜坯。 | ||
申请公布号 | CN1302996A | 申请公布日期 | 2001.07.11 |
申请号 | CN00111412.3 | 申请日期 | 2000.01.03 |
申请人 | 王晓邦 | 发明人 | 王晓邦 |
分类号 | F27B5/05 | 主分类号 | F27B5/05 |
代理机构 | 上海市东方专利事务所 | 代理人 | 李浩东 |
主权项 | 1、一种铜熔炼工艺,它包括将电解铜配以所需量的回料,然后装炉,采用工频感应加热炉熔炼并以木炭复盖,待全部熔化后,再进行熔炼浇铸,其特征在于:将铜全部熔化后采用低压熔炼,具体为在气密性熔炉内的金属液表面复盖5-15厘米厚的木炭作为保护剂,然后将熔炉的气密盖盖上,用锁紧机构锁紧,并使熔炉继续升温,在升温过程中进行低压处理,使熔炉内低压达100-160毫米汞柱的时间为6-20分钟,此时熔炉内温度达1140℃-1200℃,然后充进氮气将熔炉内压力回升至常压,再打开气密盖进行正常的浇铸。 | ||
地址 | 200127上海市浦东东三里桥路581弄11号502 |