发明名称 Plasma process apparatus and method for process for a substrate
摘要
申请公布号 GB2357898(A) 申请公布日期 2001.07.04
申请号 GB20000025040 申请日期 2000.10.12
申请人 * MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD 发明人 KIYOSHI * ARITA;TETSUHIRO * IWAI;HIROSHI * HAJI
分类号 H01L21/302;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/3065;H05H1/46;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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