| 发明名称 | 用于去除抗光蚀剂和蚀刻残留物的含有氟化物的酸性组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于去除抗光蚀剂和有机和无机残留物的组合物,和除去抗光蚀剂和蚀刻残留物的方法。该组合物是含有氟化物和有机极性溶剂的酸性水基组合物。该组合物不含二元醇并具有低的表面张力和粘度。腐蚀抑制剂可选择性地存在于该组合物中。 | ||
| 申请公布号 | CN1302327A | 申请公布日期 | 2001.07.04 |
| 申请号 | CN00800080.8 | 申请日期 | 2000.01.04 |
| 申请人 | 阿什兰公司 | 发明人 | 达里尔·W·彼得斯;伊尔·E·沃德 |
| 分类号 | C11D9/04 | 主分类号 | C11D9/04 |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 于辉 |
| 主权项 | 1．一种低表面张力、低粘度的水基组合物，其基本上由以下的物质组成：a．酸性的缓冲溶液，b．可以任何比例混溶于水中的极性有机溶剂，c．氟化物，和d．水，其中该水基组合物的pH为约3-6，并且不含二元醇。 | ||
| 地址 | 美国俄亥俄州 | ||