发明名称 | 具有成分分级的铁电材料的铁电场效应晶体管及其制造方法 | ||
摘要 | 一种非易失性非破坏性读出的铁电FET存储器(10,40,60,80,100,120,130,160)包括半导体衬底(19)、铁电功能梯度材料(“FGM”)薄膜(26,50,70,90,20,140,170)和栅电极(30)。在一个基本实施例中,铁电FGM薄膜(26,50,70,90,20,140,170)包括铁电化合物和介电化合物。介电化合物具有比铁电化合物低的介电常数。在薄膜中铁电化合物有浓度梯度。在第二基本实施例中,FGM薄膜(26,50,70,90,20,140,170)是功能梯度铁电体(“FGF”),其中铁电化合物的合成的梯度导致反传统磁滞行为。FGF薄膜的反传统磁滞行为与铁电FET存储器中的扩大的存储窗相关。FGM薄膜(26,50,70,90,20,140,170)优选地使用液体源MOD方法形成,优选是多源CVD方法。 | ||
申请公布号 | CN1302456A | 申请公布日期 | 2001.07.04 |
申请号 | CN00800714.4 | 申请日期 | 2000.03.21 |
申请人 | 赛姆特里克斯公司;松下电子工业株式会社 | 发明人 | 有田浩二;卡罗斯·A·帕兹德阿罗 |
分类号 | H01L29/78;H01L29/51 | 主分类号 | H01L29/78 |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 韩宏 |
主权项 | 1.一种具有半导体衬底(9)、铁电薄膜和栅电极(30)的铁电FET(10,40,60,80,100,110,120,130,160),其特征在于所述铁电薄膜是铁电FGM薄膜(26,50,70,90,20,140或170)。 | ||
地址 | 美国科罗拉多州 |