发明名称 真空处理装置
摘要 本发明系关于复数具备为了在内部配置被处理物品,在规定之压力下施以规定之处理,设置施以该规定之处理用之处理装置,使内部可以成为规定之压力之处理箱之真空处理装置。本发明之课题为提供:一种复数具备:设置在被处理物品施以规定之处理用之处理装置,于内部配置该被处理物品,在规定压力下施以该规定之处理用之处理箱之真空处理装置,实质之设置面积比具备相同之大小,相同数目之复数的处理箱之知之真空处理装置还小,又,维修性也比较好之真空处理装置。其解决手段为:在箱Cc之周围配置处理箱C1~C6、搬入用箱Ci、搬出用箱Co之真空处理装置A1。被配置在箱Cc之周围之8个箱被分成于上下方向区分为下侧第1层与上侧第2层之二层而配置,于箱之周围方向相邻之二个箱,被配置为在不同层相互一部份有重叠。
申请公布号 TW444239 申请公布日期 2001.07.01
申请号 TW088115841 申请日期 1999.09.14
申请人 日新电机股份有限公司 发明人 桐村浩哉
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种真空处理装置,其系一种复数具备:设置在被处理物品施以规定之处理用之处理装置,可以使内部成为规定之压力,于内部配置该被处理物品,在规定压力下施以该规定之处理用之处理箱之真空处理装置,其特征为:上述复数之处理箱被配置于可以使内部成为规定之压力之物品搬送用中央箱之周围,分别被连接于该中央箱,上述复数之处理箱被分成上下方向区分为二之复数之层而配置,于上述中央箱之周围方向,各相邻之二个之处理箱被配置于不同之层,只有一部份互相重叠。2.如申请专利范围第1项所述之真空处理装置,其中上述处理装置之全部或上部份在由处理箱外部附设之处理箱中,该处理装置之全部或一部份系附设于该处理箱之天花板部份或下底部份。3.如申请专利范围第1项或第2项所述之真空处理装置,其中在上述处理箱之至少其中一个,于其天花板部份设置可以开关之盖。4.如申请专利范围第1项或第2项所述之真空处理装置,其中具备前处理用箱,可以在内部配置复数之被处理物品,设置先于上述处理箱之处理,对于被处理物品施以规定之前处理用之前处理装置,可以使内部成为规定之压力,被连接于上述中央箱而设置之前处理用箱。5.如申请专利范围第4项所述之真空处理装置,其中上述前处理用箱被配置于与在上述中央箱之周围方向与此相邻之上述处理箱被配置之层不同之层,与该相邻之处理箱只有一部份重叠。6.如申请专利范围第1项或第2项所述之真空处理装置,其中具备后处理用箱,可以在内部配置复数之被处理物品,设置在上述处理箱之处理后,对于被处理物品施以规定之后处理用之后处理装置,可以使内部成为规定之压力,被连接于上述中央箱而设置之后处理用箱。7.如申请专利范围第6项所述之真空处理装置,其中上述后处理用箱被配置于与在上述中央箱之周围方向与此相邻之上述处理箱被配置之层不同之层,与该相邻之处理箱只有一部份重叠。8.如申请专利范围第1项或第2项所述之真空处理装置,其中具备可以在内部配置1或2以上之被处理物品,可以使内部成为规定之压力,被连接于上述中央箱而设置之搬入用箱,将被处理物品搬入上述中央箱用之搬入用箱。9.如申请专利范围第8项所述之真空处理装置,其中上述搬入用箱被配置于与在上述中央箱之周围方向与此相邻之上述处理箱被配置之层不同之层,与该相邻之处理箱只有一部份重叠。10.如申请专利范围第1项或第2项所述之真空处理装置,其中具备可以在内部配置1或2以上之被处理物品,可以使内部成为规定之压力,被连接于上述中央箱而设置之搬出用箱,将被处理物品由上述中央箱搬出用之搬出用箱。11.如申请专利范围第10项所述之真空处理装置,其中上述搬出用箱被配置于与在上述中央箱之周围方向与此相邻之上述处理箱被配置之层不同之层,与该相邻之处理箱只有一部份重叠。12.如申请专利范围第1项或第2项所述之真空处理装置,其中具备:可以在内部配置1或2以上之被处理物品,可以使内部成为规定之压力,被连接于上述中央箱而设置之搬入用箱,将被处理物品搬入上述中央箱用之搬入用箱,以及可以在内部配置1或2以上之被处理物品,可以使内部成为规定之压力,被连接于上述中央箱而设置之搬出用箱,将被处理物品由上述中央箱搬出用之搬出用箱,上述搬入用箱与上述搬出用箱互相重叠被配置于不同之层。13.如申请专利范围第1项或第2项所述之真空处理装置,其中被设置于上述各处理箱之处理装置分别独立于被设置在其它之处理箱之处理装置,可以对于被处理物品施以规定之处理。14.如申请专利范围第1项或第2项所述之真空处理装置,其中可以使上述各箱之内部压力分别独立于其它之箱,成为规定之压力。15.如申请专利范围第1项或第2项所述之真空处理装置,其中在上述中央箱配置在被连接于该中央箱而设置之上述各箱间,可以搬送上述被处理物品之搬送机械手。图式简单说明:第一图系本发明之真空处理装置之一例之概略平面图。第二图(A)、第二图(B)、第二图(C)、第二图(D)系分别沿着第一图所示之真空处理装置之X1-X1线、X2-X2线、X3-X3线、X4-X4线之概略剖面图。第三图系显示具有第一图所示之真空处理装置之进行复数之处理用之装置之连接状态方块图。第四图系显示设置在第一图所示之真空处理装置之处理箱之天花板部份之盖打开之状态之概略斜视图。第五图(A)系本发明之真空处理装置之其它例之概略平面图,第五图(B)系沿着该真空处理装置之第五图(A)之X-X线之概略剖面图。第六图系本发明之真空处理装置之另外的其它例之概略平面图。第七图(A)、第七图(B)、第七图(C)系分别沿着第六图所示之真空处理装置之X1-X1线、X2-X2线、X3-X3线之概略剖面图。第八图系习知之真空处理装置之一例之概略平面图。第九图(A)系习知之真空处理装置之其它例之概略平面图,第九图(B)系沿着该真空处理装置之第九图(A)之X-X线之概略剖面图。第十图(A)系习知之真空处理装置之另外的其它例之概略平面图,第十图(B)系沿着该真空处理装置之第十图(A)之X-X线之概略剖面图。
地址 日本