发明名称 频率偏差检测装置及频率偏差检测方法
摘要 〔课题〕得到一种频率偏差侦测装置,可在使得在DTMF信号之最短持续时间确保至少一个分析区间下确保足以侦测规定之频率偏差之精度,适当的侦测频率偏差。〔解决手段〕一种频率偏差侦测装置,系关于侦测DTMF信号之频率偏差之频率偏差侦测装置,具备以可得到足以侦测规定之频率偏差之精度之长度之分析区间对于规定频率之周边之频率成分分析接收信号之复数频率偏差分析器20与频率偏差分析器21,复数频率偏差分析器20与频率偏差分析器21如在DTMF信号之最短持续时间确保至少一个分析区间般偏移重叠。
申请公布号 TW444473 申请公布日期 2001.07.01
申请号 TW088118373 申请日期 1999.10.25
申请人 三菱电机股份有限公司 发明人 后藤宏二
分类号 H04L27/14 主分类号 H04L27/14
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种频率偏差侦测装置,侦测DTMF信号之频率偏差,其特征在于:具有复数频率偏差分析装置,在可得到足以侦测规定之频率偏差之精度之长度之分析区间对于规定频率之周边之频率成分分析接收信号;该复数频率偏差分析装置之分析区间如在DTMF信号之最短持续时间确保至少一个分析区间般偏移重叠。2.如申请专利范围第1项之频率偏差侦测装置,其中还包括:频率分析装置,对于复数规定频率之频率成分分析接收信号;及侦侧装置,依照该频率分析装置之分析结果侦测接收信号主要包括那一高群与低群之组合之规定频率;该复数频率偏差分析装置只分析该侦侧装置所侦测之高群与低群之规定频率之周边之频率成分。3.如申请专利范围第1或2项之频率偏差侦测装置,其中该频率偏差分析装置之分析区间之偏移系8kHz取样率之约105个样本量,该频率偏差分析装置之分析区间之长度系8kHz取样率之约150个样本量。4.如申请专利范围第2项之频率偏差侦测装置,其中该频率分析装置分析区间系8kHz取样率之约60个样本量。5.一种频率偏差侦测方法,侦测DTMF信号之频率偏差,其特征在于:包括频率偏差分析制程,在可得到足以侦测规定之频率偏差之精度之长度之分析区间对于规定频率之周边之频率成分分析接收信号;该频率偏差分析制程之复数分析区间如在DTMF信号之最短持续时间确保至少一个分析区间般偏移重叠。6.如申请专利范围第5项之频率偏差侦测方法,其中还包括:侦测制程,对于复数规定频率之频率成分分析接收信号,侦测接收信号主要包括那一高群与低群之组合之规定频率;该频率偏差分析制程只分析在该侦侧制程所侦测之高群与低群之规定频率之周边之频率成分。图式简单说明:第一图系表示本发明之实施例1之频率偏差侦测装置之概略构造之方块图。第二图系表示实施例1之低群频率之信号强度与侦测频率偏差之频率偏差侦测器之概略构造之方块图。第三图系表示实施例1之高群频率之信号强度与侦测频率偏差之频率偏差侦侧器之概略构造之方块图。第四图系表示实施例1之频率偏差侦测装置之动作之说明图。第五图系表示实施例1之频率偏差判定器之判定动作之流程之流程图。第六图系表示在实施列1之频率偏差判定器判定为规格内之情况之接收信号之频率特性之一例之图。第七图系表示在实施例1之频率偏差判定器判定为规格外之情况之接收信号之频率特性之一例之图。第八图系表示本发明之实施例2之频率偏差侦测装置之概略构造之方块图。第九图系表示实施例2之高群之频率偏差侦测器之概略构造之方块图。第十图系表示实施例2之低群之频率偏差侦测器之概略构造之方块图。第十一图系表示实施例2之频率偏差侦测装置之动作流程之流程图。第十二图系表示实施例2之频率偏差侦测装置之动作之说明图。第十三图系表示在习知之低群频率与高群频率之组合之表示记号之图表。第十四图系表示在习知之DTMF接收器之概略构造之方块图。第十五图系表示在习知之接收信号之一例之图。第十六图系表示在习知之DTMF接收器之动作之说明图。
地址 日本