发明名称 改良型IC产品承载盘
摘要 本创作系关于一种改良型IC产品承载盘,其顶面具有多数纵横排列的间隔条,间隔条将承载盘顶面区隔成多数整齐排列的容置空间,容置空间内具有方形的容置槽孔,容置槽孔的内周壁均呈斜面型态,且其上方端口较大,下方端口较小,所以基板尺寸界于放置槽孔之上方端口与下方端口间的所有IC产品均可承放,而且基板边缘可与放置槽孔的内周壁完全抵靠,藉以达到减少承载盘的种类数量、生产成本,及IC产品放置后可稳固定位的设计目的。
申请公布号 TW444754 申请公布日期 2001.07.01
申请号 TW089211254 申请日期 2000.06.30
申请人 日月光半导体制造股份有限公司 发明人 李新辉;谢莹尾
分类号 B65D85/90 主分类号 B65D85/90
代理机构 代理人 林镒珠 台北市长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种改良型IC产品承载盘,其顶面具有多数纵横排列的间隔条,间隔条将承载盘顶面区隔成多数整齐排列的容置空间,其特征在于:容置空间内具有方形的容置槽孔,容置槽孔的内周壁均呈斜面型态,且其上方端口较大,下方端口较小。2.如申请专利范围第1项所述改良型IC产品承载盘,其中容置槽孔可为贯通之型态。3.如申请专利范围第1项所述改良型IC产品承载盘,其中容置槽孔可为未贯通之型态。图式简单说明:第一图:系本创作第一种结构型态之剖面示意图。第二图:系本创作第一种结构型态之实施示意图。第三图:系本创作第二种结构型态之剖瓦示意图。第四图:系本创作第二种结构型态之实施示意图。第五图:系本创作第三种结构型态之实施示意图。第六图:系习用结构之平面示意图。第七图:系习用结构之剖面示意图。第八图:系习用结构之实施示意图。
地址 高雄巿楠梓加工出口区经三路二十六号