| 发明名称 |
BUBUR (SLURRY) CMP YANG MENGANDUNG KATALIS PADAT |
| 摘要 |
<p>A chemical mechanical polishing composition comprising an oxidizing agent and at least one solid catalyst, the composition being useful when combined with an abrasive or with an abrasive pad to remove multiple metal layers from a substrate.</p> |
| 申请公布号 |
ID28712(A) |
申请公布日期 |
2001.06.28 |
| 申请号 |
ID20000002582 |
申请日期 |
1999.05.25 |
| 申请人 |
CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION |
发明人 |
SHUMIN WANG;BRIAN L. MUELLER |
| 分类号 |
B24B37/11;C09G1/02;C09K3/14;C23F3/00;H01L21/321;(IPC1-7):C09G1/02 |
主分类号 |
B24B37/11 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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