发明名称 Verfahren und Einrichtung zur Schichtdickenmessung
摘要 A light beam is reflected by the film and the substrate surface. The reflected light is passed to an interferometer. The latter determines the points of maximum interference at its outlet. Specifically the beam is infra-red radiation. The light can be deviated by a plate of LiF.
申请公布号 DE1962359(A1) 申请公布日期 1970.09.03
申请号 DE19691962359 申请日期 1969.12.12
申请人 TEXAS INSTRUMENTS INC. 发明人 FRANK COX,PAUL
分类号 G01B9/02;G01B11/06 主分类号 G01B9/02
代理机构 代理人
主权项
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