发明名称 | 具有改良的粘结强度和耐底切性的铜箔的粘结处理 | ||
摘要 | 本发明涉及一种处理的电沉积铜箔,其具有粘合一增强铜层,优选多层,其电沉积在基铜箔的粘合面上;还具有电沉积在粘合一增强层上的铜和砷共沉积层,和电沉积在铜/砷层上的锌或锌合金层。本发明还涉及一种制造这种箔和敷铜箔叠片的方法,其中这种箔被粘接到聚合物衬底上。 | ||
申请公布号 | CN1301130A | 申请公布日期 | 2001.06.27 |
申请号 | CN00128414.2 | 申请日期 | 2000.09.29 |
申请人 | 美国耶茨箔片股份有限公司 | 发明人 | C·B·耶茨;G·加斯基尔;C·T·程;A·沙阿 |
分类号 | H05K3/38 | 主分类号 | H05K3/38 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 朱黎明 |
主权项 | 1.一种用于制造印刷电路板的处理的铜箔,其包括:(a)电沉积铜基箔,其具有在其表面上沉积粘结处理层的粘合面,处理层包括:(b)在该粘合面上电沉积的铜-铜粘接增强的处理层;(c)在粘合增强处理层上电沉积的铜-砷层;和(d)在铜-砷层上电沉积的锌或锌合金的阻挡层。 | ||
地址 | 美国新泽西州 |