| 发明名称 | 有机抗反射涂料聚合物和其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种抗反射涂料聚合物,包含该聚合物的抗反射涂料(ARC)组合物和使用该种组合物的方法。本发明的抗反射涂料聚合物特别适用于使用ArF(193nm)激光作为光源的在超微平版印刷方法中。本发明的ARC降低或阻止光的背反射和衍射和/或反射光造成的临界尺寸变化的问题。本发明的ARC也明显地降低或消除了驻波效应和反射刻痕。由此,使用本发明的ARC形成了适用于制备1G和4GDRAM半导体器件的稳定的超细图案。本发明的ARC明显地改进了此种半导体器件的产率。 | ||
| 申请公布号 | CN1300790A | 申请公布日期 | 2001.06.27 |
| 申请号 | CN00137447.8 | 申请日期 | 2000.12.25 |
| 申请人 | 现代电子产业株式会社 | 发明人 | 洪圣恩;郑旼镐;白基镐 |
| 分类号 | C08F220/10;C09D133/08;C09D5/32 | 主分类号 | C08F220/10 |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 过晓东 |
| 主权项 | 1、具有下列通式的聚合物：<img file="A0013744700021.GIF" wi="842" he="685" />其中，R<sub>a</sub>、R<sub>b</sub>、R<sub>c</sub>、R<sub>d</sub>和R<sub>e</sub>均独立地为氢或C<sub>1</sub>-C<sub>6</sub>烷基；R<sub>1</sub>-R<sub>4</sub>独立地是氢、选择性地取代或未取代的C<sub>1</sub>-C<sub>5</sub>烷基，或选择性地取代的烷氧基烷基；w、x、y和z均独立地为0.1-0.9之间的摩尔分数；且l,m,n和p均独立地为1-3的整数。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||