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发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR INCREASING WAFER THROUGHPUT BETWEEN CLEANINGS IN SEMICONDUCTOR PROCESSING REACTORS
摘要
申请公布号 KR20010052406(A) 申请公布日期 2001.06.25
申请号 KR1020007013319 申请日期 2000.11.27
申请人 发明人
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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