发明名称 PURIFIED METHYL 伪-CHLOROACRYLATE/伪-METHYLSTYRENE COPOLYMER AND ELECTRON BEAM RESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
摘要
申请公布号 KR20010052543(A) 申请公布日期 2001.06.25
申请号 KR1020007013692 申请日期 2000.12.04
申请人 发明人
分类号 G03F7/039;G03F1/08 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
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