| 主权项 |
1.一种溅镀装置,其经由一永久磁铁配置,而具有磁性放大功能,其配置于远离靶之溅镀表面之靶面上并且产生一磁场,其磁力线在溅镀表面上经过并穿过此表面,它具有一阴极,其至少部份由溅镀表面形成,并且具有一在阴极前隔着距离而配置的阳极,以产生一电场,因而此永久磁铁配置是由两个圆形或椭圆形其各自由各个磁铁(5,5'...,6,6'...)所组成之互相包含且同轴配置之列所构成,其经由一轭(9)而互相连接,其特征为:介于两个永久磁铁列(7,8)之间,设有一个由磁铁性材料所构成,在其形状结构中适合轭(9)而其横截面较佳是U一形的插入部件(10),其背离靶(3)之背侧表面是附在与永久磁铁列(7,8)之面向靶(3)相邻接之磁铁轭(9)的表面上,因而此U形插入部件(10)之两个股本身各与永久磁铁列(7,8)保持距离(a,b),在靶(3)的方向延伸。2.一种溅镀装置,其经由一永久磁铁配置,而具有磁性放大功能,其配置于远离靶之溅镀表面之靶面上,并且产生一磁场,其磁力线在溅镀表面上经过并穿过此表面,它具有一阴极,其至少部份由溅镀表面所形成,并且具有一在阴极前隔着距离而配置的阳极,以产生一电场,因而,此永久磁铁配置是由两个圆形或椭圆形其各自由各个磁铁(5,5'...,6,6'...)所组成之互相包含且同轴配置之列所构成,其经由一轭(15)而互相连接,其特征为:此远离永久磁铁(7,8)之列的靶(3)面,是由两个本身彼此弯曲延伸之部份表面之部件表面(3a,3b)所构成因而此由两个部件表面(3a,3b)所互相形成的边缘(3c)平行于永久磁铁(5,5'...,6,6'...)之列(7,8)而伸展,因而在磁铁轭(15)与被磁铁轭(15)所转向之耙(3)面之间,插入一个由铁磁性材料所构成的插入部件(14)。3.如申请专利范围第1或2项之装置,其中接近位于径向内部之永久磁铁列(7)之插入部件(14)之表面,本身垂直于靶面;以及接近位于径向外部之永久磁铁列(8)之插入部件(14)之表面,构成一对于轭(15)表面倾斜的表面(14a)。4.如申请专利范围第1或2项之装置,其中此永久磁铁列(7,8)之各个永久磁铁(5,5'...,6,6'...)形成为正棱柱,较佳是正六面体或长方六面体,其基础边缘与侧边边缘对靶表面呈倾斜走向。5.如申请专利范围第3项之装置,其中此永久磁铁列(7,8)之各个永久磁铁(5,5'...,6,6'...)形成为正棱柱,较佳是正六面体或长方六面体,其基础边缘与侧边边缘对靶表面呈倾斜走向。6.如申请专利范围第1或2项之装置,其中此由铁磁性材料所构成之插入部件(10,14)具有在基本上扁平的圆环柱形或是形成一个大约扁平的椭圆形环,因而在靠近靶(3)之平面中,此由铁磁性材料所构成的插入部件(10,14),形成一沟槽或一沟渠形的凹处(11,16),其本身平行于两个永久磁铁列(7,8)而伸展,并且因此,此径向限制沟渠(11,16)之插入部件(10,14)之两个部件表面(10b,10c或14b,14c)密封附在一板或一箔形件(4)上,其介于靶(3)与被插入之插入部件(10,14)之间,并且其与沟槽(11,16)共同限制一冷冻剂通道。7.如申请专利范围第3项之装置,其中此由铁磁性材料所构成之插入部件(10,14)具有在基本上扁平的圆环柱形或是形成一个大约扁平的椭圆形环,因而在靠近靶(3)之平面中,此由铁磁性材料所构成的插入部件(10,14),形成一沟槽或一沟渠形的凹处(11,16),其本身平行于两个永久磁铁列(7,8)而伸展,并且因此,此径向限制沟渠(11,16)之插入部件(10,14)之两个部件表面(10b,10c或14b,14c)密封附在一板或一箔形件(4)上,其介于靶(3)与被插入之插入部件(10,14)之间,并且其与沟槽(11,16)共同限制一冷冻剂通道。8.如申请专利范围第4项之装置,其中此由铁磁性材料所构成之插入部件(10,14)具有在基本上扁平的圆环柱形或是形成一个大约扁平的椭圆形环,因而在靠近靶(3)之平面中,此由铁磁性材料所构成的插入部件(10,14),形成一沟槽或一沟渠形的凹处(11,16),其本身平行于两个永久磁铁列(7,8)而伸展,并且因此,此径向限制沟渠(11,16)之插入部件(10,14)之两个部件表面(10b,10c或14b,14c)密封附在一板或一箔形件(4)上,其介于靶(3)与被插入之插入部件(10,14)之间,并且其与沟槽(11,16)共同限制一冷冻剂通道。图式简单说明:第一图为根据本发明之正六面体或长方六面体所形成之永久磁铁5,5'..或6,6'之配置。第二图为显示将第一图的永久磁铁5,5'...6,6'配置于对靶平面或对转动轴倾斜的位置中。第三图与第四图显示根据第一图与第二图之阴极,然而是牢固的图解说明,因而简述磁力线的走向。 |
