| 主权项 |
1.一种构件精细定位用之装置,其特征为包括:a)一种具有对称轴(2)之单件式双平行弹簧元件(1),其由以下元件构成:i)一个固定之外框架(3),在其内侧环绕对称轴(2)而在相面对之位置上形成二个支件(4,5),ii)一种可在此二个支件(4,5)之间移动之中梁(6),iii)配置在中梁(6)之二侧之可移动之侧梁(7,8),iv)配置在每一个支件(4,5)二侧之二对(pair)在末端处设有弯曲位置(10)之平行式连接元件(9),第一连接元件(9)分别与侧梁(7,8)及支件(4,5)相连接,第二连接元件(9)分别与侧梁(7,8)及中梁(6)相连接,b)一种介于支件(4,5)和中梁(6)之末端之间之弹性元件(11),c)一种微调元件(12),其配置在支件(4,5)和中梁(6)之末端之间。2.如申请专利范围第1项之装置,其中此双平行弹簧元件(1)由热膨胀系数小及弯曲特性良好之材料所制成。3.如申请专利范围第1项之装置,其中此双平行弹簧元件(1)由Ni36钢板所制成。4.如申请专利范围第1项之装置,其中各弯曲位置(10)或整个双平行弹簧元件(1)是以电子式侵蚀法形成,其形成时因此不会有应力。5.如申请专利范围第1项之装置,其中各弯曲位置(10)以板簧构成。6.如申请专利范围第1项之装置,其中弹性元件(11)和微调元件(12)之力传送之点是在对称轴(2)上。7.如申请专利范围第1项之装置,其中弹性元件(11)是以压力弹簧或拉力弹簧构成。8.如申请专利范围第1项之装置,其中此中梁(6)在框架(3)之方向中藉由弹性元件(11)而被夹紧。9.如申请专利范围第1项之装置,其中在框架(3)之内侧在侧梁(7,8)末端之对面形成一些间隔件。10.如申请专利范围第1项之装置,其中微调元件是以人工或马达驱动之微调螺栓构成或以压电元件构成。11.如申请专利范围第1项之装置,其中此微调元件(12)设有一种高解析度之长度测量系统(20)(以便测量其实际之调整値)及一种调整电路,其中此长度测量系统(20)之测量値形成调整电路所需之调整値。12.如申请专利范围第1项之装置,其中该调整电路是与一种自动聚焦系统一起作用以对此物镜(18)进行自动聚焦。13.如申请专利范围第1项之装置,其中为了达成一种对称之负载分布,则物镜支件(17)及其上所固定之物镜(18)是配置在中梁(6)之前侧且微调元件(12)配置在中梁(6)之后侧。14.如申请专利范围第1项之装置,其中形成此种垂直精细定位用之装置且该构件是一种物镜(18)。15.如申请专利范围第14项之装置,其中此物镜(18)界定一种光轴,其平行于此种由中梁(6)所界定之移动方向。16.如申请专利范围第1项之装置,其中此微调元件(12)可相对于弹性元件(11)之力以无倾斜之方式而在垂直方向中被调整。17.如申请专利范围第1项之装置,其中该弹性元件(11)是弹簧,其在框架(3)之方向中夹紧该中梁(6)。18.一种如申请专利范围前几项中任一项之装置之应用,其特征为:此装置设置在高精确之座标测量机中以便对一种待聚焦之物镜(37)进行精细之定位。19.一种座标测量机,其用来决定透明基板(35)上之各结构(36)相对于参考点之位置,其特征为包括:a)入射光-照明装置(37,40)及/或透射光-照明装置(42,43),它们系位于一种共同之垂直光轴上,b)一种可相对于光轴(38)而垂直移动之框架形测量桌(4),其具有干涉仪定位元件(34)以便容纳该基板(35),c)一种具有可聚焦之物镜(37)之成像装置,以便对基板(35)之各结构(36)进行成像,d)一种垂直配置之单件式双平行弹簧元件(1),其具有对称轴(2)且由下述组件构成:i)一个固定之外框架(3),在其内侧环绕对称轴(2)而在相面对之位置上形成二个支件(4,5),ii)一种可在此二个支件(4,5)之间移动之中梁(6),iii)配置在中梁(6)之二侧之可移动之侧梁(7,8),iv)配置在每一个支件(4,5)二侧之二对(pair)在末端处设有弯曲位置(10)之平行式连接元件(9),第一连接元件(9)分别与侧梁(7,8)及支件(4,5)相连接,第二连接元件(9)分别与侧梁(7,8)及中梁(6)相连接,e)一种介于支件(4,5)和中梁(6)之末端之间之弹性元件(11),f)一种微调元件(12),其配置在支件(4,5)和中梁(6)之末端之间,g)一种固定在中梁(6)上之物镜支件(17)以容纳该物镜(18)。20.如申请专利范围第19项之座标测量机,其中微调元件(12)是一种以人工或马达来驱动之微调螺栓或以压电元件构成;此微调元件(12)设有一种高解析度之长度测量系统(20)(用来测量其实际之调整値)及一种调整电路,此长度测量系统(20)之测量値形成此调整电路用之调整値。21.如申请专利范围第20项之座标测量机,其中该调整电路是与一种自动聚焦系统一起作用以便对物镜(18)进行自动聚焦。图式简单说明:第一图具有双平行弹簧元件之构件在精细定位时所用之装置。第二图高精确之测量机之部份图,其具有物镜之精细定位用之装置。第三图是第二图之高精确之测量机之切面图,其具有一种对物镜作精细定位所用之装置。第三图a是第三图中以参考符号“X"表示之圆之放大之细部图。第四图高精确之座标测量机,其具有一种对物镜作精细定位所用之装置。 |
