| 主权项 |
1.一种具有一透镜配置的投影物镜,其中包含:—一第一正透镜组(LG1);—一第一负透镜组(LG2);—一第二正透镜组(LG3);—一第二负透镜组(LG4);—一更进一步的透镜配置(LG5-LG7),自物镜端至影像端依序排列,该进一步透镜配置(LG5-LG7)包含一孔径光阑(AS),其中位于该孔径光阑AS之前及/或后方之各两透镜(L21,L22;L23,L24)中至少一透镜(L21,L24)具有负的折射功率。2.一种具有一透镜配置的投影物镜,其中包含:—一第一正透镜组(LG1);—一第一负透镜组(LG2);—一第二正透镜组(LG3);—一第二负透镜组(LG4);—一更进一步的透镜配置(LG5-LG7),自物镜端至影像端依序排列,该进一步透镜配置(LG5-LG7)包含一孔径光阑(AS),以及在该孔径光阑(AS)之前至少有三个透镜(L18-L22)。3.一种具有一透镜配置的投影物镜,其中包含:—一第一正透镜组(LG1);—一第一负透镜组(LG2);—一第二正透镜组(LG3);—一第二负透镜组(LG4);—一更进一步的透镜配置(LG5-LG7),自物镜端至影像端依序排列,该进一步透镜配置(LG5-LG7)包含一孔径光阑(AS),以及在该孔径光阑之前至少一球面过校正之空气间隙介于相邻的透镜(L20,L21)之间。4.一种具有至少两光腰及三个光腹部的投影物镜,其特征在于孔径光阑(AS)设置于影像侧的最后光腹区域中,且在孔径光阑AS之前及/或后方两透镜(L21,L22;L23,L24)中至少一透镜(L21,L24)为负透镜。5.如申请专利范围第2项所述之投影物镜,其特征在于该光径光阑(AS)之前至少有三个透镜(L18-L22)。6.如申请专利范围第2项所述之投影物镜,其特征在于该孔径光阑之前至少一球面过校正之空气间隙介于相邻的透镜(L20,L21)之间7.如申请专利范围第1至6项中至少一项所述之投影物镜,其特征在于影像侧的数値孔径为0.65,最好是等于或大于0.70。8.如申请专利范围第1至6项中至少一项所述之投影物镜,其特征在于所有的透镜均为相同的材料。9.如申请专利范围第8项所述之投影物镜,其特征在于该投影物镜完全由石英玻璃物镜架构而成。10.如申请专利范围第1至6项中至少一项所述之投影物镜,其特征在于该透镜包含两种不同的材料。11.如申请专利范围第1至6项中至少一项所述之投影物镜,其特征在于其被架构为一部份消色差石英玻璃/氟化钙物镜,尤其用于193奈米的波长。12.如申请专利范围第1至6项中至少一项所述之投影物镜,其特征在于两相邻透镜(L21,L22;L23,L24)中之至少一之透镜(L21,L24)为负功率,且该透镜位于孔径光阑AS之前及后方。13.如申请专利范围第1项或第4项中至少一项所述之投影物镜,其特征在于一球形过校正空气间隙与位于孔径光阑之前及/或后方两相邻透镜中至少一负功率之透镜相毗连。14.如申请专利范围第1至6项中至少一项所述之投影物镜,其特征在于物体侧的前三个透镜中有两个透镜具有负的折射功率,最好为-+-或--+的形态。15.一种用于微显影的投影曝光设备,其特征在于该投影曝光设备包含如申请专利范围第1至6项中至少一项所述的投影物镜。16.一种用于制造微结构元件的方法,其中具有一光阻层之基体经由一光罩及一根据申请专利范围第15项之投影曝光设备进行曝光,尤其是在显影后光阻层之图案与光罩之图案互相对应。图式简单说明:第一图系具有NA=0.7的第一实施例的透镜区;第二图系具有NA=0.7之第二实施例的透镜区;第三图系具有NA=0.75之第三实施例的透镜区;第四图系具有NA=0.8之第四实施例的透镜区;第五图系具有NA=0.8之第五实施例的透镜区。为用于248奈米的纯石英玻璃物镜。第六图系第六实施例的透镜区。第七图系第六实施例之典型像差。 |
