| 主权项 |
1.一种可防止控片滑出之晶舟,该晶舟系可以将复数个控片以及晶圆放置于其中,再送入直立式高温反应炉管以进行制程反应,该晶舟包括:一上圆板,其具有二侧结合点以及至少一后结合点,上述二侧结合点系设于上圆板之一直径之两端,该直径系可将该上圆板区分成一前半圆板以及一后半圆板,该后结合点系设于后半圆板之边缘;一下圆板,其具有二侧结合点以及至少一后结合点,上述二侧结合点系设于下圆板之一直径之两端,该直径系可将该下圆板区分成一前半圆板以及一后半圆板,该后结合点系设于后半圆板之边缘,又上述结合点系分别与上圆板之结合点相对应;二侧支撑杆,系分别与上、下圆板之二侧结合点相连接,上述二侧支撑杆设有复数个向内侧凸出之支撑块;以及至少一后支撑杆,系分别与上、下圆板之后结合点相连接,该后支撑杆设有复数个向内侧凸出之支撑块,其中上述后支撑杆之支撑块与侧支撑杆之支撑块之高度系互相对应并形成复数个插槽,该晶舟系藉由其所形成之复数个插槽将复数个晶圆与控片放置于其中;其特征在于:上述晶舟在其二侧支撑杆之支撑块之前端设有挡板,使控片在放置于插槽时,该挡板可将控片限制于插槽内部以避免控片滑出晶舟。2.如申请专利范围第1项所述之可防止控片滑出之晶舟,其中该晶舟系具有二后支撑杆,而该上、下圆板各设有二后结合点,上述二后结合杆之两端系分别与上、下圆板之二后结合点相结合。3.如申请专利范围第2项所述之可防止控片滑出之晶舟,其中上述上圆板之二后结合点系设于后半圆板之边缘并将后半圆板等分成三等分。4.如申请专利范围第2项所述之可防止控片滑出之晶舟,其中上述下圆板之二后结合点系设于后半圆板之边缘并将后半圆板等分成三等分。5.如申请专利范围第1项所述之可防止控片滑出之晶舟,其中该上圆板系设有一圆孔且在其前半圆板上设有一平边。6.如申请专利范围第1项所述之可防止控片滑出之晶舟,其中该下圆板系设有一圆孔且在其前半圆板上设有一平边。7.如申请专利范围第1项所述之可防止控片滑出之晶舟,其中该上圆板之形状约与晶圆相似但其面积系略大于晶圆。8.如申请专利范围第1项所述之可防止控片滑出之晶舟,其中该下圆板之形状约与晶圆相似但其面积系略大于晶圆。9.如申请专利范围第1项所述之可防止控片滑出之晶舟,其中该挡板之高度系略高于侧支撑杆之支撑块。10.如申请专利范围第1项所述之可防止控片滑出之晶舟,其中该晶舟系将复数个控片放置于其两端之插槽中,并将复数个晶圆放置于中间之插槽中。图式简单说明:第一图A系为垂直式高温炉管之示意图。第一图B系为炉管内部之温度与位置分布图。第二图系为习知技术之晶舟结构示意图。第三图系为本创作之晶舟结构示意图。 |
