| 主权项 |
1.一种二维资料插补方式,系使用可有限次微分且具有有限范围之値的取样函数,而对二变数之各个,实行以等间隔配置于以二变数规定之二维空间上之多数离散资料所对应之褶积演算,而插补前述离散资料间之値,为其特征者。2.如申请专利范围第1项之二维资料插补方式,其中前述取样函数,系在全域内仅可微分一次之函数,为其特征者。3.如申请专利范围第1项之二维资料插补方式,其中前述取样函数,在将3阶B样条(spline)函数定义为F(t)时,可定义为H(t)=-F(t+1/2)/4+F(t)-F(t-1/2)/4,为其特征者。4.如申请专利范围第3项之二维资料插补方式,其中前述3阶B样条函数F(t),其-3/2≦t<-1/2可用(4t2+12t+9)/4表现,-1/2≦t<1/2可用-2t2+3/2表现,1/2≦t<3/2可用(4t2-12t+9)/4表现,为其特征者。5.如申请专利范围第1项之二维资料插补方式,其中前述取样函数中,-2≦t<-3/2者可用(-t2-4t-4)/4,-3/2≦t<-1者可用(3t2+8t+5)/4,-1≦t<-1/2者可用(5t2+12t+7)/4,-1/2≦t<1/2者可用(-7t2+4)/4,1/2≦t<1者可用(5t2-12t+7)/4,1≦t<3/2者可用(3t2-8t+5)/4,3/2≦t≦2者可用(-t2+4t-4)/4加以定义,为其特征者。6.如申请专利范围第3项之二维资料插补方式,其特征为具备有:一离散资料抽出装备,系在前述二维空间中,抽出存在于成为插补演算对象之着眼点之周边之一定范围中之多数之前述离散资料;一第1取样函数演算装备,系针对以前述离散资料插出装备所抽出之多数之前述离散资料之各个,沿于规定前述二维空间之前述二变数之一者所对应之方向,令前述着眼点与各离散资料间之距离为t1,而计算前述取样函数H(t1);一第1褶积演算装备,系使用以前述第1取样函数演算装备计算所得之多数取样函数之値实行沿于前述二变数之一者之褶积演算,而求取沿于前述二变数之一者之多数的各系列之第1插补値;一第2取样函数演算装备,系针对以前述第1褶积演算装备所抽出之多数之前述第1插补位之各个,沿对应于前述二变数之另一者之方向,令前述着眼点与前述第1插补値间之距离为t2,而计算前述取样函数H(t2);一第2褶积演算装备,使用以前述第2取样函数演算装备计算所得之多数之取样函数之値,实行沿于前述二变数之另一者之褶积演算,求取对应前述着眼点之第2插补値。7.如申请专利范围第5项之二维资料插补方式,其特征为具备有:一离散资料抽出装备,系在前述二维空间中,抽出存在于成为插补演算对象之着眼点之周边之一定范围中之多数之前述离散资料;一第1取样函数演算装备,系针对以前述离散资料插出装备所抽出之多数之前述离散资料之各个,沿于规定前述二维空间之前述二变数之一者所对应之方向,令前述着眼点与各离散资料间之距离为t1,而计算前述取样函数H(t1);一第1褶积演算装备,系使用以前述第1取样函数演算装备计算所得之多数取样函数之値实行沿于前述二变数之一者之褶积演算,而求取沿于前述二变数之一者之多数的各系列之第1插补値;一第2取样函数演算装备,系针对以前述第1褶积演算装备所抽出之多数之前述第1插补位之各个,沿对应于前述二变数之另一者之方向,令前述着眼点与前述第1插补値间之距离为t2,而计算前述取样函数H(t2);一第2褶积演算装备,使用以前述第2取样函数演算装备计算所得之多数之取样函数之値,实行沿于前述二变数之另一者之褶积演算,求取对应前述着眼点之第2插补値。图式简单说明:第一图为揭示本实施型态之资料处理装置之构成之示意图。第二图为揭示在着眼点之周边抽出之像素资料之范围之示意图。第三图为以一定间隔沿X方向排列之像素资料与其间之插补位置之关系之示意图。第四图为使用于取样函数演算部中之演算的取样函数之说明图。第五图为沿于X方向之像素资料与其间之X方向插补値之关系之示意图。第六图为计算X方向插补値之具体例之示意图。第七图为以一定间隔沿Y方向排列之X方向插补値与其间之着眼点上之插补値之关系之示意图。第八图为sinc函数之说明图。第九图为使用sinc函数之资料插补之说明图。 |
