发明名称 作为聚合物光安定剂之立体阻碍六氢啶衍生物、其制备方法以及使聚合物安定化以对抗因光及热而降解之方法
摘要 本发明有关一种聚合物安定剂,其经由光化学反应增加其分子量。该安定剂具有式(I)CC (I)其中各个取代基系如说明书中之定义。此等新颖安定剂特别适于用为聚合物光安定剂。此等安定剂之制备方法以及使聚合物安定化以对抗因光及热而降解之方法亦有相关揭示。
申请公布号 TW442477 申请公布日期 2001.06.23
申请号 TW086106040 申请日期 1997.05.05
申请人 赫斯特化工厂 发明人 卡尔.佳;玛帝沙.查;马沙斯.梅尔;吉尔哈德.法勒
分类号 C07D295/00;C08K5/3435;C09K15/30 主分类号 C07D295/00
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种如式(I)之安定剂 其中 Z为0或1, m为1.2或3,且若Z为0则为1, B若Z为1,则为式(Ⅱ)化合物,而 若Z为0,则为式(Ⅲ)化合物, 且 n若0或1, A若m为1,则为环结构中具有6至20个碳原子之芳族基 团,其经一个或多个氢、C1-C4-烷基、三氟甲基、C1- C4-烷氧基、卤素、氰基、羧基、硝基、胺基、C1-C 4-烷胺基、C1-C4-二烷胺基、醯基或醯氧基所取代, 芳族基亦可于一边或两边与苯稠合。 R1为氢原子、C1-C20-烷基、氧基O-、-OH、-NO、-CH2CN 、基、烯丙基、C1-C30-烷氧基、C5-C12-环烷氧基 、C3-C10-烯基、C3-C6-炔基、C1-C10-醯基、卤素、或C7 -C10-苯烷基,其未经取代或于苯环上经C1-C4-烷基或- 烷氧基取代, R2为氢原子或C1-C12-烷基、 R3为氧原子、-NR8或-NY,其中 R8为氢原子、C1-C12-烷基、C5-C10-环烷基、或C6-C9-芳 基,且 Y为下式基团 其基团R1及R2如前定义, R4为基团-C(=O)-或-NHC(=O)-, R5若Z为1,n为0,m为1,R4为-C(=O)-,而先决条件为R1非C1-C 18-烷醯基、C5-C12-环烷醯基、C2-C18-烯醯基、C5-CR12- 环烯醯基或C7-C15-芳基-烷醯基, 则为氰基或基团-C(-O)R9. -C(=O)OR9或R10,其中 R9为C1-C12-烷基,且 R10为环结构中具有5至14个碳原子之芳族基,其经一 个或多个氢、C1-C4-烷基、三氟甲基、C1-C4-烷氧基 、卤素、氰基、羧基、硝基、胺基、C1-C4-烷胺基 、C1-C4-二烷胺基、醯基或醯氧基所取代, R5,若Z为1,m为1,2,或3,n为0,而R4为-NHC(=O)-,则为氰基或 基团 -C(=O)R9.-C(=O)OR9.R10或-C(=O)R11,以氰基为佳,其中 R11为下式基团 其中R1.R2及R3如前定义, R5,若Z为1,n为0,m或2或3,而R4为 -C(=O)-,则为氰基或基团-C(=O)R9.-C(=O)OR9或R10, R5,若Z为1,n为0,m为2,而R4为-C(=O)-,则为基团-C(=O)Rn,先 决条件为若m为2,则A无法同时为说明书中所定义之 式IV、V或X基团,而若m为3,则A无法同时为说明书所 定义之式XX基团, R5,若Z为1,m为1.2或3,且n为1,则为氰基或基团-C(=O)R9.- C(=O)OR9.R10或-C(=O)R11, R6为氢、卤素、C1-C4-烷基、氰基或硝基。 且,于式(Ⅲ)中, R7为一个或多个氢型、C1-C4-烷基型,三氟甲基型、C 1-C4-烷氧基型、卤素型、氰基型、羧基型、硝基 型、胺基型、C1-C4-烷胺基基、C1-C4-二烷胺基型)醯 基型或醯氧基型取代基,且 X 为氧原子或-NR12,其中 R12如式(I)中R8或Y之定义,其中式(III)中,基团R1.R2.R3 及R4之定义对应于式(I)中之相同基团的定义。2.如 申请专利范围第1项之安定剂,其中 A 为环结构中具有6至20个碳原子之单价或二价芳 族基,其经一个或多个氢、C1-C2-烷基、C1-C2-烷氧基 、硝基、C1-C2-烷胺基及/或C1-C2-二烷胺基取代,该 基团之一边或两边可与苯稠合,R1为氢原子、C1-C5- 烷基、C1-C10-烷氧基、C5-C6-环烷氧基、C3-C6-烯基、 C1-C5-醯基,或C7-C8-苯烷基,其不经取代,或苯环上经C 1-C2-烷基取代, R2为氢原子或C1-C4-烷基, R3为氧原子或-NR8, R6为氢、卤素、C1-C2-烷基、氰基或硝基, R8为氢原子、C1-C5-烷基、C5-C6-环烷基或C6-C7-芳基, R9为C1-C6-烷基, R10为环结构中具有5至14个碳原子之芳族基,其经个 或多个氢、C1-C2-烷基、C1-C2-烷氧基、C1-C2-烷胺基 、C1-C2-二烷胺基、醯基或醯氧基所取代, 且于式(Ⅲ)中 R7为一个或多个氢型、C1-C2-烷基型、C1-C2-烷氧基 型、胺基型、C1-C2-二烷胺基型取代基。3.如申请 专利范围第1项之安定剂,其中 A为苯基、甲苯基、对甲氧苯基、对一硝苯基、3,4 -二甲氧苯基、3,4,5-三甲氧苯基、对伸苯基、9,10- 葱基、氧杂氢基、2-喃基或2-嗯基, m为1或2, R1为氢原子或甲基, R2为甲基, R3为氧原子为-NR8,其中 R8为氢原子或丁基, R5为氰基、-C(=O)R9或-C(=O)R11,其中 R9为甲基, R6为氢、甲基或氯原子, 而于式(Ⅲ)中, R7为氢且 X为氧原子。4.一种制备如申请专利范围第1项式(I) 安定剂之方法,若Z=1且R4=-C(=O)-,则包括式(XXV)化合 物 与式(XXVI)之醛 反应,若Z=1且R4=-NHC(=O)-,则于式(XXX)化合物 与(XXVⅢ)化合物 于原位加热时直接或之后,使(XXX) 与(XXVⅢ) 反应, 或特别制备并单离式(XXIX)化合物 使彼与式(XXVⅢ)化合物 反应, 当Z=0时,则包括使式( XXXI)化合物 与式(XXVⅢ)化合物 反应,该等化合物系于高沸点非质子有机溶剂中在 20℃至该溶剂沸点的温度下反应。5.如申请专利范 围第1项之安定剂,用以使有机物安定化,尤其是作 为光安定剂,尤其是用于塑料、涂料、涂覆组成物 及油。6.一种使聚合物安定化以对抗因光及热而 降解之方法,其包括于制备之前、之间或之后,于 欲安定化之物质中,添加以有机物计浓度由0.001至5 重量%之如申请专利范围第1项之式(I)安定剂,该浓 度以由0.02至1重量%为佳。
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