| 摘要 |
<p>In Ätzkammern, wie sie beispielsweise in der Halbleiterindustrie eingesetzt werden, kommt es zu Ablagerungen an der Ätzkammerwandung. Da diese ungleichmäßig sind, können an Ablagerungsgipfeln auftretende Feldspitzen zu Überschlägen führen, die Partikel von der Ätzkammerwandung ablösen und auf einen zu bearbeitenden Wafer gelangen lassen. Dies kann zu Funktionsausfällen betroffener integrierter Schaltkreise führen. Die bisherige, prophylaktische Reinigung der Ätzkammer passt sich nicht an den tatsächlichen Verschmutzungsgrad der Ätzkammerwandung an und erhöht somit die Verfahrenskosten. Die vorliegende Erfindung stellt eine Überwachungsvorrichtung für eine Ätzkammer mit einer Ätzkammerwandung und zumindest einer Elektrode bereit, die zumindest eine Signalabnahme an der Ätzkammerwand und eine Signalabnahme an der zumindest einen Elektrode, eine Umwandlungseinheit zur Umwandlung der abgegriffenen Signale in eine zur Auswertung geeignete Form und eine Auswerteeinheit aufweist, die zur Erkennung von Mustern im zeitlichen Verlauf der Signale und zur Entscheidung, ob eine Reinigung und/oder Wartung der Ätzkammer notwendig ist, dient. Mit dieser Vorrichtung lässt sich das erfindungsgemäße Verfahren durchführen, das folgende schritte umfasst: (A) Abgreifen eines elektrischen Signals zwischen Ätzkammerwand und zumindest einer Elektrode der Ätzkammer; (B) Messen eines zeitlichen Verlaufs des elektrischen Signals; (C) Erkennen von Mustern im zeitlichen Verlauf des elektrischen Signals, die von den Normalmustern in einer einwandfreien Ätzkammer abweichen; (D) Entscheiden anhand der erkannten Muster im zeitlichen Verlauf des Signals, ob eine Wartung und/oder Reinigung der Ätzkammer notwendig ist.</p> |
