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发明名称 Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauteils
摘要
申请公布号 DE19983274(T1) 申请公布日期 2001.06.21
申请号 DE19991083274T 申请日期 1999.04.01
申请人 ASAHI KASEI MICROSYSTEMS CO., LTD. 发明人 NAITO, FUMIO;IMAI, HISAYA;MOCHIZUKI, HIDENORI
分类号 H01L21/8238;H01L21/8247;H01L27/105;H01L27/115;H01L29/788;H01L29/792;(IPC1-7):H01L21/824 主分类号 H01L21/8238
代理机构 代理人
主权项
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