发明名称 DEVICE AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATES
摘要 <p>Für eine Optimierung der Strömungsverhältnisse bei einer Vorrichtung (1) zum Behandeln von Substraten (2) in einem mit Behandlungsfluid gefüllten Behandlungsbecken (3), mit wenigstens einem Diffusor (12) zum Einleiten des Fluids in das Behandlungsbecken (3), ist vorgesehen, dass der Abstand zwischen dem Diffusor (12) und den Substraten (2) einstellbar ist. Ferner ist ein Verfahren zum Einstellen des Abstands angegeben. Als weitere Massnahme zur Verbesserung der Strömungsverhältnisse bei einer Vorrichtung der oben genannten Art ist vorgesehen, dass der Diffusor (12) eine zu den Substraten (2) hin zylindrisch gewölbte Diffusorplatte (18) mit Austrittsöffnungen (20) aufweist, deren Zylinderachse senkrecht zu den Substratebenen verläuft.</p>
申请公布号 WO2001045143(A1) 申请公布日期 2001.06.21
申请号 EP2000012428 申请日期 2000.12.08
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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