摘要 |
<p>La présente invention concerne un réacteur à plasma qui comprend un support de plaquette et une enceinte de chambre possédant une surface intérieure qui fait généralement face à ce support de plaquette. Au moins une plaque de distribution de gaz miniature destinée à introduire un gaz de traitement dans le réacteur est supportée sur l'enceinte de la chambre et elle possède une surface de sortie qui est une partie de la zone de la surface intérieure de ce support de plaquette. Un système réfrigérant maintient l'enceinte de la chambre à basse température et la plaque de distribution de gaz miniature est au moins partiellement isolée thermiquement de cette enceinte de chambre de sorte qu'elle est maintenue à une température plus élevée par un chauffage à plasma.</p> |