发明名称 Verfahren zur Herstellung einer strukturierten Metallschicht
摘要 Die Erfindung stellt Verfahren bereit, mit denen auch Edelmetallelektroden mittels herkömmlicher CMP-Schritte, insbesondere mit Hilfe herkömmlicher Slurries, wie sie für die Strukturierung von unedlen Metallen bereits verwendet werden, strukturiert werden können. Durch die Bildung einer Legierung sind die chemisch aktiven Komponenten der Slurry in der Lage, den Zusatz zu dem Edelmetall in der Legierung anzugreifen, wodurch sich die Oberfläche der Legierungsschicht aufrauht und der mechanische Abtrag des Edelmetalls erhöht wird.
申请公布号 DE19959711(A1) 申请公布日期 2001.06.21
申请号 DE19991059711 申请日期 1999.12.10
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 BEITEL, GERHARD;SAENGER, ANNETTE;HARTNER, WALTER
分类号 C23C16/40;H01L21/02;H01L21/321;(IPC1-7):H01L21/321;H01L21/823;H01L21/768;H01L21/320;C23C14/14 主分类号 C23C16/40
代理机构 代理人
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