| 主权项 |
1.一种用于积体电路之生产设备,包含:至少一个无尘室,其中系设有用以处理诸如晶圆之原料成为积体电路的处理机构;及相关装置,用于该无尘室与位在其中之处理机构;其特征在于:该生产设备系分隔为相互分离之处理单元,系由壁所分离;各个处理单元均包含一个无尘室;各个无尘室系备有处理机构,用以执行需有实质类似条件之处理;各个处理单元均包含相关装置,用于在同一处理单元中之该无尘室;及于该处理单元中之相关装置系专用以维持该无尘室中之处理装置所需的条件。2.一种用于积体电路之生产设备,包含:至少一个无尘室,其中系设有用以处理诸如晶圆之原料成为积体电路的处理机构;及相关装置,用于该无尘室与位在其中之处理机构;其特征在于:该生产设备系分隔为相互分离之处理单元,系由壁所分离;各个处理单元均含一个无尘室;各个无尘室系备有处理机构,用以处理实质类似之产品型式;各个处理单元均包含相关装置,用于在同一处理单元中之该无尘室;及于该处理单元中之相关装置系专用以维持该无尘室中之处理装置所需的条件。3.如申请专利范围第1项或第2项之生产设备,其中各个处理单元系实质上仅备有至该单元中之处理机构所需的有用物供应系统之连接。4.如申请专利范围第1项或第2项之生产设备,其中各个处理单元均仅包含供执行实质上为类似型式之处理的处理装置。5.如申请专利范围第1项或第2项之生产设备,其中该等单元系配置绕于一个中央单元,该中央单元系配置以提供人员与材料到至少该无尘室之进出,且供换穿长袍及清除污染。6.如申请专利范围第5项之生产设备,其中该中央单元包含一个无尘隔室与一个非无尘隔室,该等隔室系由供换装长袍及清除污染之设施所分离,该等无尘室系仅能透过中央单元之无尘隔室而进出。7.如申请专利范围第5项之生产设备,其中该中央单元系配置供在污染控制条件下之不同处理单元的无尘室之间输送材料与人员。8.如申请专利范围第6项之生产设备,其中该中央单元之无尘隔室系邻近于属于不同处理单元之无尘室。9.如申请专利范围第7项或第8项之生产设备,其中包括处理单元与中央单元之至少一些单元中系配置供晶圆之中间储存的中间仓库,且输送机构系配置用以执行透过中间仓库之介于单元间的晶圆输送。10.如申请专利范围第8项之生产设备,其中于中央单元与分离的处理单元之中系设有机构,供介于处理机构间之可能自动输送。11.如申请专利范围第5项之生产设备,其中该中央单元系配置供有用物至处理单元之中央供应,并且供自处理单元之排出物之中央抽取。12.如申请专利范围第1项或第2项之生产设备,其中该等处理单元具有矩形之平面。13.如申请专利范围第1项或第2项之生产设备,其中该等处理单元具有六边形之平面。14.如申请专利范围第1项或第2项之生产设备,其中各个处理单元系配置以拼装及安装为一单独个体。15.如申请专利范围第1项或第2项之生产设备,其中连接至一个处理单元之有用物的型式、品质与数量系因处理单元而异。16.如申请专利范围第1项或第2项之生产设备,其中供建造坚固性以及供防护振动、EMC与危险之提供物系因处理单元而异。17.如申请专利范围第1项或第2项之生产设备,其中在一个处理单元之主要生产楼层下方与上方之建造层的数目与构造性质系针对该单元中之处理机构而调适。图式简单说明:第一图系根据本发明之一种生产设备的平面图;第二图系根据本发明之另一种生产设备的平面图;第三图系第一图所示之生产设备的平面图,其中系显示晶圆之路径;第四图系第一图所示之生产设备的分解图,其中系显示电源、其他有用物与排出物之路径;第五图系类似于第四图之一视图,其中系显示用于人员与材料之典型路径;第六图系穿过根据本发明之一种生产设备的垂直截面图;及第七图A至第七图E显示根据本发明之生产设备的不同架构群之平面图。 |
