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1.一种由含硫酸废流中制造石膏的方法,其包括有:(A)添加含钙硷性材料到该废流中,使得pH値在约为2.0到2.7的范围之内,以沈淀出石膏,并且从此废流中回收此沈淀的石膏,以及(B)添加硷性材料到废流中,使得pH値在约为3.0到3.4的范围之内,以沈淀出杂质,并且从此废流中移除此沈淀的杂质,以及(C)添加含钙硷性材料到该废流中,使得pH値在约为4到6的范围之内,以沈淀出石膏,并且从此废流中回收此沈淀的石膏。2.根据申请专利范围第1项的方法,其中在步骤A中,使得pH値约为2.4。3.根据申请专利范围第1项的方法,其中在步骤B中,使得pH値约为3.0。4.根据申请专利范围第1项的方法,其中在步骤C中,使得pH値约为6。5.根据申请专利范围第1项的方法,其中含钙硷性材料是从氢氧化钙、碳酸钙、氧化钙和石灰中所选出。6.根据申请专利范围第5项的方法,其中含钙硷性材料是氢氧化钙。7.根据申请专利范围第1项的方法,其中在步骤B中,沈淀出的杂质是经由凝聚来移除。8.根据申请专利范围第7项的方法,其中沈淀出的杂质是经由具有一种阴离子凝聚剂的凝聚来移除。9.根据申请专利范围第1项的方法,其中在步骤C中,含钙硷性材料在废流中的停留时间,是在约2到4个小时之间。10.根据申请专利范围第1至9项中任一项的方法,其中在步骤A或是步骤C中,所制造出石膏的粒子大小为20到120微米。11.根据申请专利范围第1至第9项中任一项的方法,其中在步骤A和步骤C中,所制造出石膏的平均粒径为40到120微米之间。12.根据申请专利范围第1至第9项中任一项的方法,其中在步骤A和步骤C中,所制造出石膏的平均粒径为60到120微米之间。13.根据申请专利范围第1至第9项中任一项的方法,其中在步骤A和步骤C中,所制造出经沈淀的石膏具有大于95%的纯度。14.根据申请专利范围第13项的方法,其中在步骤A和步骤B中,所制造出的石膏具有大于90%的纯度。15.根据申请专利范围第13项的方法,其中在步骤A和步骤B中,所制造出的石膏具有大于92%的纯度。 |
