发明名称 FORMACION DE PUERTAS EN TRANSISTORES.
摘要 SE PRESENTA UN METODO PARA LA FORMACION DE TRANSISTORES QUE TENGAN ELEMENTOS SUBLITOGRAFICOS, POR EJEMPLO, COMPUERTAS. SE CREA UNA MASCARA DURA MODELADA (FORMADA, POR EJEMPLO, A PARTIR DE PETEOS) DE MODO QUE QUEDE SUPERPUESTA A UNAS CAPAS DE OXIDO Y DE POLISILICIO. LAS DIMENSIONES DE LA MASCARA DURA SE REDUCEN MEDIANTE ATAQUE ISOTROPICO. LA MASCARA DURA DE DIMENSIONES REDUCIDAS SE UTILIZA EN UN PROCESO DE ATAQUE ANISOTROPICO PARA DEFINIR UN ELEMENTO DE DIMENSIONES REDUCIDAS TAL COMO UNA COMPUERTA.
申请公布号 ES2156139(T3) 申请公布日期 2001.06.16
申请号 ES19940307274T 申请日期 1994.10.05
申请人 AT&T CORP. 发明人 LEE, KUO-HUA;YU, CHEN-HUA DOUGLAS
分类号 H01L21/302;H01L21/033;H01L21/28;H01L21/306;H01L21/3065;H01L21/3213;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/033;H01L21/321 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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